Gebraucht RUDOLPH / AUGUST AXI-S #293617880 zu verkaufen

ID: 293617880
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
Macro inspection system, 8" 2004 vintage.
RUDOLPH/AUGUST AXI-S ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine beispiellose Präzision und Genauigkeit bei der Beurteilung der Defekte auf Masken- und Wafersubstraten bietet. Dieses System arbeitet nach einem Abtastprinzip mit Bildanalysetechnologie, die Maske und Wafersubstrat mit einem Laser abgetastet und anschließend auf das Vorhandensein von Fehlern analysiert sieht. Das Gerät verfügt über ein hochauflösendes Teilsystem für die Abbildungsoptik und eine blitzschnelle Abtastrate (200 Bilder pro Sekunde), wodurch die Masken- und Waferinspektionen in einem Bruchteil der Zeit anderer Inspektionssysteme abgeschlossen werden können. AUGUST AXI-S verfügt über einen leistungsstarken automatisierten Fehlererkennungsalgorithmus, der Fehler auf einer Vielzahl von Produktionssubstraten genau identifizieren und klassifizieren kann. Die Maschine kann eine Vielzahl von Defekten erkennen und identifizieren, darunter Splitter, Fuzz, Punktfehler, Gruben, Partikel, Linien, Hohlräume und totale Maskenfehler. Seine digitalen Mustererkennungsfunktionen vergleichen Masken- oder Wafermuster mit einem bestimmten Erscheinungsbild oder einer Spezifikation für Formelemente, um digitale Modelle zu erstellen. RUDOLPH AXI-S verfügt auch über eine benutzerzentrierte Oberfläche, die einfach zu navigieren, intuitiv und bietet eine Vielzahl von Bildvergleichs- und Analysemöglichkeiten. Dieses Tool bietet hervorragende Leistung und bietet unübertroffene Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Mit Bildsensor-Arrays, hochpräzisen digitalen Servo-Positionierungssystemen und eingebetteten Bildgebungsalgorithmen bietet AXI-S die höchstmögliche Genauigkeit und den höchstmöglichen Durchsatz. Das Asset ist auch so konzipiert, dass es vollständig erweiterbar ist, sodass Anwender schnell und einfach zusätzliche Bildverarbeitungs- und Analysefunktionen integrieren können. RUDOLPH/AUGUST AXI-S ist ein innovatives, umfassendes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das beste Präzision und Genauigkeit bietet. Mit seinen hochentwickelten Funktionen und der benutzerfreundlichen Oberfläche ist dieses Gerät ideal für eine breite Palette von Inspektions- und Analysebedürfnissen. Durch die schnelle, einfache und präzise Erkennung und Klassifizierung von Masken- und Waferdefekten ist dieses System die ideale Wahl für höchste Genauigkeit und Produktivität bei der Inspektion und Analyse von Substraten.
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