Gebraucht RUDOLPH / AUGUST CV 9812 #9223286 zu verkaufen

ID: 9223286
Wafergröße: 12"
Wafer career inspection, 12" High resolution CCD Camera Probe LCD, 15” PC: Processor: 300 MHz Hard Disk Drive (HDD): 4.3 GB Floppy Disk Drive (FDD): 3.5” Dram: 24 x CD 32 MB Operating system: Windows NT4.0 Power unit: Cable Handy barcode reader Performance: Measurement accuracy: Direct measurement: ±0.0254 mm Rear wafer position measurement: ±0.0762 mm Repeatability: ±0.013 mm (Use STD Calibration tool, 6σ) Operating environment: 20°C - 22°C (Volatility 0.5°C/hour ≦) Facility: Manual CDA: 90 - 100 PSI 5/16” OD Power supply: 200-240 V, 50/60 Hz, 1φ.
RUDOLPH/AUGUST CV 9812 Mask & Wafer Inspektionsausrüstung ist ein leistungsfähiges, zuverlässiges Werkzeug, das eine effiziente visuelle Inspektion und Klassifizierung von Lithographie-Blöcken schnell und präzise ermöglicht. Das System bietet mehrere Inspektionsmöglichkeiten mit besonderem Fokus auf die Erkennung von Fremdpartikeln, Beulen, Kratzern und anderen Arten von Defekten an den Komponenten. Die Anwendung des Geräts gilt für die Inspektion von Flachbildschirmen, integrierten Halbleiterschaltungen (ICs), OLEDs, organischen LEDs (OLEDs), LEDs, Solarzellen und anderen dünnen Substraten. Die Maschine ist mit einem präzisen glaslosen, optisch perfekten Inspektionsfenster ausgestattet, mit dem die genaue Steigung der Maskenschicht gemessen wird. Dadurch kann das Werkzeug winzige Schwankungen der Lithographieblöcke mit höchster Genauigkeit erkennen und somit sowohl die Analyse als auch die Behebung des Fehlermusters ermöglichen. Das Asset unterstützt auch fortschrittliche Algorithmen zur automatisierten Fehlererkennung sowie manuelle Inspektion. Um Partikel und andere Defekte an den Komponenten zu erkennen, verwendet das Modell fortschrittliche optische Technologie, die Laserinterferometrie und Bildverarbeitung umfasst. Das Laserinterferometer wird verwendet, um den Abstand zwischen jedem detaillierten Muster auf der Maskenschicht genau zu messen. Der Bildprozessor analysiert dann die Bilder, um Fehler, wie das Vorhandensein von Fremdpartikeln, zu identifizieren. Die Bilder können auch verwendet werden, um Fehler basierend auf Größe, Form, Position und anderen Parametern zu klassifizieren. Das Gerät kann auch mehrere Mängel erkennen und klassifizieren. Das bedeutet, dass ein Techniker sich das Problem genauer ansehen kann, um die Ursache des Fehlers zu identifizieren oder entsprechend einzuordnen. Dies spart Zeit und Ressourcen, verbessert die Effizienz und verhindert weitere Produktschäden. AUGUST CV 9812 Mask & Wafer Inspektionssystem integriert sich auch in Testsysteme, so dass Bediener den Produktionsstatus überprüfen können, während sie Mängel beurteilen und reparieren. Darüber hinaus wurde das Gerät entwickelt, um erweiterte Analysefunktionen bereitzustellen, um die Fehlererkennungsgenauigkeit weiter zu verbessern. Sie stellt sicher, dass verwertbare Daten in einer Weise gesammelt und gespeichert werden, die mit anderen Stakeholdern, wie Hardware-Ingenieuren und Lieferanten, geteilt werden kann. RUDOLPH CV 9812 Maske & Wafer Inspektionsmaschine ist ein fortschrittliches Werkzeug für schnelle, präzise und genaue Inspektion und Klassifizierung von Lithographie-Blöcken. Seine vielseitige optische Technologie, seine automatisierten Inspektionsmöglichkeiten und seine integrierte Analytik ermöglichen es ihm, Fehler rechtzeitig und effizient zu erkennen und zu beheben, was dazu beiträgt, Kosten zu sparen und die Produktqualität zu verbessern.
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