Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #293586627 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein umfassendes Paket zur Inspektion von Masken und technisch hergestellten Wafer-Produkten. Es ist in der Lage, schnell und genau Bilder der Fehler zu erfassen, die auf der Oberfläche der Substrate vorhanden sein können, und wird durch die Verwendung einer fortgeschrittenen Bildverarbeitungsmaschine erreicht. Das System ist in der Lage, sowohl undurchsichtige als auch transparente Defekte im Bereich von 0,1 Mikrometer bis 400 Mikrometer zu erkennen. Dies geschieht durch die Verwendung von hochauflösenden Farb-CCD-Kameras mit direkten und planaren Mikroskopen, die für eine hochauflösende Bildgebung entwickelt wurden. Die verbesserten Bildgebungsfunktionen der AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit ermöglichen die Erkennung sowohl undurchsichtiger als auch transparenter Fehler sowie optionaler Funktionen wie Rückseitenbildgebung und Fehlerabbildung. Unter Verwendung der Maskentabelle kann die Maschine bis zu einer Geschwindigkeit von 600 Wafern pro Stunde scannen und die direkten Mikroskope bieten die Möglichkeit, Funktionen bis zu einem Grad von 0,15 µm zu erkennen. Darüber hinaus verwendet das Tool die schnellste Optik, um sicherzustellen, dass Bilder in höchster Qualität aufgenommen werden. Darüber hinaus ist das Asset vollautomatisiert und läuft über tragbare Workstations. Die benutzerfreundliche Software ermöglicht eine schnelle und einfache Navigation mit wenigen Klicks. Die intuitive Benutzeroberfläche der Software zeigt Bilder von den Kameras und bietet Zugriff auf Parameter wie Zoom und Helligkeit, so dass Benutzer die Leistung des Modells an ihre spezifischen Anwendungsanforderungen anpassen können. Das Gerät bietet auch Fehlerzählsoftware und statistische Prozesskontrollsoftware, um Pass-Fail-Berichte schnell und präzise zu erstellen, was Zeit und kostspielige Fehler spart. RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection System ist eine umfassende Inspektionseinheit perfekt für eine breite Palette von Maske und Wafer Herstellung und Engineering-Inspektion Anforderungen. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche und dem umfassenden Funktionsumfang können Anwender die Maschine schnell und einfach nach ihren spezifischen Anwendungsanforderungen konfigurieren. Als solches bietet dieses Tool Herstellern eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Möglichkeit zur Erkennung und Nachverfolgung von Defekten auf Masken und technisch hergestellten Substraten.