Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #293607882 zu verkaufen

ID: 293607882
Weinlese: 2006
Macro defect inspection system Includes: Wafer handler Universal film frame handler Missing / Damaged parts: X-Stage encoder NSK Controller Matrox PC PS Stage, 24 V 2006 vintage.
RUDOLPH/AUGUST NSX 105 ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine moderne kostengünstige Lösung für die Inspektion und Reparatur von Halbleitermasken und Wafern bietet. Dieses System wurde entwickelt, um Fehler in ICs mithilfe fortschrittlicher Inspektionstechnologien wie 3D-Bilderkennung, Bildnähte, Dual-Strahl-Laser und erweiterte Bildverarbeitungsalgorithmen genau zu identifizieren und zu finden. AUGUST NSX-105 verwendet zwei Laser in einem „Dual-Strahl“ -Design. Diese Laser ermöglichen eine hochpräzise Analyse von Wafer- und Maskenmustern hinsichtlich ihrer Form, Größe und anderen Eigenschaften. Alle von der Einheit erzeugten Bilder können zur Verwendung in der weiteren Verarbeitung und Analyse in ihrem Onboard-Speicher gespeichert werden. Die Maschine enthält auch eine Option für die Bordbildnähte, die verwendet werden kann, um mehrere Bilder miteinander zu verknüpfen, um große Felder schneller und genauer zu analysieren. RUDOLPH NSX 105 ist mit einer erweiterten Software-Suite ausgestattet, mit der Benutzer komplexe Muster effizient und schnell genau überprüfen können. Seine 3D-Bilderkennungsfunktion ermöglicht die schnelle und genaue Erkennung auch sehr kleiner Defekte und Muster. Darüber hinaus enthält die für dieses Tool verwendete Software zusätzliche erweiterte Funktionen wie integrierte Grenzerkennung und Fehlerclustering-Algorithmen. Die Anlage ist kompakt, leicht und einfach zu bedienen. Es verfügt über eine einfache Schnittstelle, mit der Bediener kritische Parameter schnell anpassen oder benutzerdefinierte Inspektionsverfahren einrichten können. Es kann auch in einer breiteren Palette von Anwendungen und Kontexten verwendet werden, wie IC-Produktionslinien und IC-Kapselungssysteme. RUDOLPH NSX 105 ist eine zuverlässige und effiziente Lösung zur Inspektion und Reparatur von Halbleitermasken und Wafern. Seine erweiterten Bilderkennungs- und Bildnahtfunktionen gewährleisten eine hochpräzise Analyse, während seine benutzerfreundliche und flexible Benutzeroberfläche es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet macht. Die Kombination dieser Merkmale macht das Modell zu einer ausgezeichneten Wahl für jede Halbleiterproduktionsumgebung, die eine genaue, zuverlässige und kostengünstige Masken- und Waferinspektion erfordert.
Es liegen noch keine Bewertungen vor