Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9230601 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein umfassendes Wafer- und Maskeninspektionssystem für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Das Gerät ist eine integrierte Maschine bestehend aus einer elektrischen Ladestation, Direktbeleuchtung (DI) Beleuchter, Kamera, Computer, Bildverarbeitungssoftware und Peripheriegeräte einschließlich eines SDE-Mikroskops, Probenstufe und Filtrationswerkzeug. Das optoelektronische Teilsystem der Anlage besteht aus der Polarizer-Analyzer Imaging Station (PAIS), DI-Leuchte, Kamera und SDE-Mikroskop. Der Beleuchter hat einen Wellenlängenbereich von 400 bis 1050 nm, mit einer breiten Palette von Funktionen, einschließlich adaptiver Leistungsregelung und einstellbarer Lichtintensitäten, um eine hohe Empfindlichkeit und optimale Leistung zu gewährleisten. Die Kamera ist eine hochauflösende CCD-Kamera, die Bilder der Samples mit bis zu 600 Bildern pro Sekunde aufnimmt. Das SDE-Mikroskop (Scanning Diffraction Element) bietet eine optische Auflösung von bis zu 0,25 μ m und ein hochvergrößertes Bild der Probenscheibe. Das Modell verfügt über eine hochentwickelte Software für die Bilderfassung und Analyse. Es umfasst automatische und halbautomatische Fehlererkennung, Analyse und Klassifizierung sowie umfassende Module zur Wafer-/Maskeninspektion und -analyse. Die Software ermöglicht auch eine Vielzahl von Operationen wie Maskeninspektion in planaren oder 3D-Bildern, Oberflächeninspektion und Messtechnik, Photomasken-Authentifizierung, 3D-Inspektion und Fehlererkennung. Die periphere Ausrüstung von AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Equipment ist auf hohe Genauigkeit ausgelegt. Die Probenstufe ist für eine präzise Positionierung, mit einstellbaren Parametern für eine präzise Positionierung und für eine höhere Genauigkeit ausgelegt. Das Filtrationssystem sorgt für eine saubere und präzise Inspektionsumgebung, indem kleine Partikel aus der Umwelt entfernt werden. Das Gerät ist zuverlässig und präzise ausgelegt, mit einer Genauigkeitsangabe von bis zu 0,25 μ m und einem maximalen Signal-Rausch-Verhältnis von 1000: 1. Es ist auch mit vorausschauender Wartung, benutzerfreundlichen Touchscreens, Alarmen und Temperaturregelung ausgestattet, um höchste Leistung und optimale Betriebstemperatur zu gewährleisten. RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Machine ist eine All-in-One-Lösung für die Inspektion und Analyse von Masken und Wafern und bietet präzise und zuverlässige Leistung in der Halbleiterherstellung. Dieses Werkzeug eignet sich für die High-End-Verarbeitung und kann zur effizienten Erkennung, Klassifizierung und Analyse von Defekten in Masken, Halbleiterbauelementen und anderen verwandten Materialien verwendet werden.