Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9276182 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine spezialisierte industrielle Ausrüstung entwickelt, um eine breite Palette von Masken und Wafern mit extrem hoher Präzision und Genauigkeit zu überprüfen. Dieses System kombiniert die neueste fortschrittliche CMOS-Bildgebungstechnologie mit einem fortschrittlichen optischen Design, das eine hervorragende Bildqualität von Prüfmustern bietet. Das einzigartige Design von AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit gewährleistet eine schnelle und genaue automatische Messung von Masken, Wafern und Retikeln für Defekte und ist somit ideal für den Einsatz in strengsten Qualitätskontroll- und Prüfstandards. RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Machine verfügt über ein patentiertes Ultra Contrast Hypersensitive (UCH) Bildverarbeitungsmodul, das in der Lage ist, den Bildkontrast einer Inspektionsprobe für mehr Klarheit und Auflösung zu verbessern. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein hochauflösendes Bildgebungswerkzeug, das in der Lage ist, Inline-Inspektionen von Masken- und Waferbildern durchzuführen. Darüber hinaus ist das Masken- & Wafer-Inspektionsmodell NSX 105 mit einer Mikrospendeeinrichtung ausgestattet, die lichtempfindliche Materialien automatisch kontrolliert auf die Probenoberfläche verteilen kann. Dieses Mikrospendesystem sorgt dafür, dass Proben großer Größe und verschiedener Formen schnell und präzise inspiziert werden können. RUDOLPH/AUGUST NSX-105 Mask & Wafer Inspection Unit beinhaltet auch fortschrittliche Bildverarbeitungs- und Software-Algorithmen zur Erkennung und Analyse von Defekten mit hoher Dichte. Diese Algorithmen basieren auf Fourier-Analysen und anderen modernen Messtechniken, die in der Lage sind, die kleinsten Abweichungen bei Inspektionen mit höchster Genauigkeit zu erfassen. Darüber hinaus ist die Maschine auch in der Lage, Fehler wie Fehlstellungen von Mustern oder geometrische Verzerrungen zu erkennen und zu korrigieren. Darüber hinaus ist RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Tool für den Einsatz in extremen Umgebungsbedingungen wie niedrigen oder hohen Temperaturen, Feuchtigkeit und Schmutz konzipiert. Es ist auch in der Lage, Fehlerinspektionen bei hohen Geschwindigkeiten durchzuführen und ist mit einer breiten Palette von optischen Filtern und Beleuchtungsquellen für extreme Umgebungsbedingungen ausgestattet. Das Asset verfügt außerdem über ein integriertes Berichtsgenerierungstool zur Erstellung eines detaillierten Berichts über Fehlerinspektionen sowie eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) für eine einfache Bedienung. Das Modell ist äußerst kostengünstig konzipiert und bietet niedrige Betriebskosten bei gleichzeitig überlegener Leistung und zuverlässigen Ergebnissen. Insgesamt ist RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur Durchführung von hochpräzisen Masken- und Waferinspektionen in verschiedenen Branchen. Es ist ein Muss für jedes Unternehmen, das Genauigkeit, Präzision und Produktivität in seinen Inspektionsprozessen schätzt.