Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9298761 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein bildgebendes Inspektionssystem, das zur Untersuchung von Waferoberflächen auf Unregelmäßigkeiten und Unvollkommenheiten verwendet wird. Diese Inspektionseinheit kann verwendet werden, um Verschmutzungen, Verdünnungen, Nadelöcher, Versetzungen, Defekte und andere Oberflächenanomalien zu erkennen. Die Maschine verwendet eine Weißlichtquelle, eine optische Kamera und einen Bildmustererkennungsalgorithmus, um Bilder zu erfassen und Inspektionen durchzuführen. AUGUST NSX-105 besteht aus einem Dunkelfeldbeleuchtungswerkzeug bestehend aus einer weißen LED-Lichtquelle und einem tassenförmigen Dunkelfeldspiegel. Die Anlage ist auch mit einer optischen Kamera und einem Laser ausgestattet, der Interferometric Focus Scanning (IFS) verwendet, um Höhen- und Oberflächenunregelmäßigkeiten zu messen. Das Modell verfügt auch über einen Mustererkennungsalgorithmus, der verwendet wird, um Unregelmäßigkeiten in der Waferoberfläche zu erkennen. Inspektionsbilder werden mit der optischen Kamera in zwei Winkeln aufgenommen und auf der Festplatte des Geräts gespeichert. Das System erfasst auch die Bedingungen, unter denen die Bilder aufgenommen wurden, wie die verwendeten Maskentypen, die Art des verwendeten Lichts und die Parameter des Mustererkennungsalgorithmus. Die aufgenommenen Bilder werden dann durch den Mustererkennungsalgorithmus der Einheit analysiert. Dieser Algorithmus verwendet eine schablonenbasierte Technik, um Unregelmäßigkeiten oder Unregelmäßigkeiten auf der Waferoberfläche zu erkennen. Der Algorithmus verwendet auch eine dreidimensionale Technik, um die Höhe von Unregelmäßigkeiten zu messen. RUDOLPH NSX 105 ist in der Lage, bis zu 1000 Wafer automatisch mit einem Lauf zu analysieren. Die Maschine kann an die spezifischen Bedürfnisse des Benutzers angepasst werden, und sie kann für eine Vielzahl von Defekten verwendet werden, wie Verunreinigungen, Versetzungen, Nadelöcher, Verdünnung und andere Oberflächenanomalien. NSX 105 Mask & Wafer Inspection Tool ist ein fortschrittliches Werkzeug zum Erkennen, Erkennen und Messen von Oberflächenunregelmäßigkeiten und Unvollkommenheiten. Diese Anlage ist einfach zu bedienen und eignet sich ideal zur Inspektion und Qualitätssicherung von Waferoberflächen.