Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9391356 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 ist eine umfassende, automatisierte Inspektionslösung, die speziell für die Überwachung und Prüfung von Halbleiterbauelementmasken und -substraten entwickelt wurde. Das System kombiniert fortschrittliche Bildgebungs- und Bildgebungsalgorithmen, um eine überlegene Auflösung, Detektion und Inspektion aller Arten von Masken sowie Wafern und anderen Substraten zu ermöglichen. Das Gerät lässt sich problemlos in alle bestehenden Fertigungsprozesse integrieren und ermöglicht es dem Bediener, die Masken- und Waferproduktion zu überprüfen und zu bewerten und gleichzeitig die Qualitätskontrolle zu maximieren. AUGUST NSX-105 beinhaltet eine fortschrittliche Bildverarbeitungsmaschine, die einen automatisierten Bilderfassungs- und Analysealgorithmus verwendet, um Wafereigenschaften genau zu messen und die Gleichmäßigkeit innerhalb des Substrats zu bewerten. Diese einzigartige Fähigkeit ermöglicht eine einfache und schnelle Problemerkennung in Echtzeit, bevor die Maske oder der Wafer zur weiteren Verarbeitung gesendet wird. Das Tool ermöglicht eine effiziente Prozesssteuerung und -abstimmung und optimiert Entwurfspläne für maximale Geräteleistung. Dank seiner umfassenden automatisierten Inspektionsmöglichkeiten kann RUDOLPH NSX 105 verschiedene Arten von Masken und Substraten einfach und schnell überprüfen und analysieren. Der verwendete Abbildungsalgorithmus ist in der Lage, Fehler, Verkalkungen und andere Unregelmäßigkeiten in diesen Materialien zu erkennen, und ist sogar in der Lage, verschiedene Arten von Schichtoberflächen und Fehlern auf dem Wafer zu identifizieren. Das Asset bietet auch intuitive und benutzerfreundliche Software, die viele verschiedene Wafer-, Maskierungs- und Designprotokolle bietet und dem Benutzer volle Flexibilität bei der Erstellung und Überwachung von Produktionsprozessen ermöglicht. Alle diese Tools zur Prozessüberwachung wurden entwickelt, um den Betrieb zu vereinfachen und zu rationalisieren und die Produktqualität zu vereinfachen. NSX-105 bietet auch mehrere Möglichkeiten zur Optimierung der Ausbeute, wie direkte und umgebende Prozesssteuerung, programmierbare Fehlererkennung und Erkennung fremder Partikel. Dieses Modell eignet sich sowohl für die industrielle Produktion als auch für wissenschaftliche Forschung und liefert exquisite Genauigkeit und schnelle Ergebnisse. Die Ausrüstung verfügt auch über einen kleinen Platzbedarf, so dass es einfach in fast jede Fertigungsumgebung zu integrieren. Das Masken- und Wafer-Inspektionssystem NSX 105 ist ein revolutionäres Werkzeug zur Gewährleistung der Produktqualität und zur Verbesserung der Produktionsprozesse. Dieses Gerät bietet eine fortschrittliche bildgebende Lösung mit einzigartigen Eigenschaften und Fähigkeiten, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für jeden Halbleiterhersteller macht.