Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105C #9300479 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105C Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochauflösendes System zur Inspektion der in modernen Halbleiterherstellungsprozessen verwendeten Masken und Wafer. Das Gerät nutzt 2nm Auflösung Optik, die hohe Genauigkeit Bildauflösung für die Inspektion auch die kompliziertesten Muster bieten. Die Optik ist mit einer hochauflösenden Scan-Kamera verbunden, die eine hervorragende Bilddefinition bietet. AUGUST NSX-105C bietet einen hervorragenden Nutzen für den Halbleiterherstellungsprozess, da es in der Lage ist, mehrere Fehlerinspektionen durchzuführen und die Prozesskonformität mit der Spezifikation zu bewerten. Die Maschine besteht aus zwei Primäreinheiten, einem Lichtquellenmodul und einem automatisierten Detektionsmodul. Das Lichtquellenmodul bietet eine breite Palette von Beleuchtung einschließlich LED, Laser und Lichtbogenlampen. Das automatisierte Erkennungsmodul kann Fehler in mehreren Ebenen erkennen. Es bietet auch Software für die Analyse und Verwaltung von Bilddaten. RUDOLPH NSX 105 C wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen der modernen Halbleiterbauelementherstellung zu erfüllen. Seine fortschrittliche Optik ermöglicht dramatische bildgebende Verbesserungen gegenüber älteren Wafer-Inspektionssystemen. Das Tool verwendet eine proprietäre Luftbild-Sensortechnologie, die es ermöglicht, die gesamte Oberfläche des Wafers in der Zeit zu scannen, die es braucht, um einen einzigen Scan durchzuführen. Die leichte und kompakte Bauweise der Anlage macht sie ideal für den Einsatz in Serienumgebungen. NSX 105 C bietet auch erweiterte Fehlererkennungsfunktionen. Es ist mit mehreren fortschrittlichen Erkennungsalgorithmen ausgestattet, die eine ausgezeichnete Fehlererkennungsleistung gewährleisten. Anwender können das Modell auch für eine schnelle und effiziente Datenanalyse nutzen. Das Gerät ist äußerst benutzerfreundlich und bietet hilfreiche Feedback- und Versorgungsanalysetools für maximale Fehlererkennungsgenauigkeit. Insgesamt ist NSX-105C Mask & Wafer Inspection System eine fortschrittliche Einheit zur Inspektion von Masken und Wafern, die sich für Serienumgebungen eignet. Seine erweiterte Optik ermöglicht hochauflösende Bilder, die eine schnelle und genaue Fehlererkennung ermöglichen. Die Maschine ist sehr benutzerfreundlich und funktionsreich, was sie zu einem wertvollen Kapital für den Herstellungsvorgang von Halbleiterbauelementen macht.