Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105C #9378642 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105C Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein industrielles System, das zur Gefahrenerkennung, Fehleranalyse und Fehlervermeidung in Halbleiterwafer- und Maskeninspektionsprozessen entwickelt wurde. Seine fortschrittlichen Bildverarbeitungstechnologien identifizieren und messen Funktionen auf der Waferoberfläche, suchen nach Fehlern und bieten dem Benutzer Qualitätsmessgrößen in Echtzeit. Das Gerät besteht aus einem Wafer-Mounter, einer automatischen Ausrichteinheit, einer automatisierten Lichtquelle, Wafer- und Maskenoberflächenkameras und einer hochpräzisen Bewegungssteuerungsstufe. Der Wafer Mounter sichert den Wafer und ermöglicht eine einfache Ausrichtung der Wafer- und Maskenoberflächenkameras. Die automatische Ausrichteinheit ermöglicht eine automatische Ausrichtung der Kameras zueinander und der Waferoberfläche. Die automatisierte Lichtquelle sorgt für die richtige Beleuchtung und passt die Beleuchtung je nach Merkmal der Waferoberfläche an. Die Wafer- und Maskenoberflächenkameras verfügen jeweils über einen digitalen Bildprozessor mit integrierter digitaler Bildberechnung und Funktionen zur Extraktion. AUGUST NSX-105C Maschine kann alle Arten von Defekten erkennen, von mikrogroßen Partikeln und Makeln bis hin zu makrogroßen Partikeln. Es kann auch geometrische Muster und Formen erkennen und messen. Alle diese Messungen werden aufgezeichnet und als Qualitätsmessgrößen in Echtzeit verwendet. Die präzise Bewegungssteuerungsstufe ermöglicht es den Kameras, Bilder der Waferoberfläche präzise und schnell mit außergewöhnlicher Genauigkeit aufzunehmen. Die Kameras sind auch mit einem Bild-Autofokus-Tool ausgestattet, das präzise Messungen von Funktionen ohne manuelle Anpassungen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt RUDOLPH NSX 105 C asset über eine automatisierte Berichtserzeugungsfähigkeit, die automatisch einen detaillierten Bericht über die Messungen und Fehleranalysen für Halbleiterwafer- und Maskeninspektionsprozesse erstellt. Dadurch wird sichergestellt, dass der Bericht korrekt und leicht verständlich ist. Insgesamt ist das NSX 105 C Masken- und Wafer-Inspektionsmodell eine fortschrittliche Ausrüstung, die eine zuverlässige und detaillierte Fehleranalyse für Halbleiterwafer- und Maskeninspektionsprozesse bereitstellen kann. Das System ist mit Bildverarbeitungstechnologien ausgestattet, die Merkmale auf der Waferoberfläche mit effektiver Genauigkeit erkennen und messen und einen detaillierten Bericht zum einfachen Verständnis erstellen. All diese Eigenschaften machen RUDOLPH/AUGUST NSX-105C Mask and Wafer Inspection Unit zu einer idealen Maschine für Unternehmen, die eine langfristige und zuverlässige Lösung suchen.