Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105C #9378642 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die zur Inspektion von großflächigen Flachbildschirmmasken und Wafern verwendet wird. Dieses System nutzt eine Kombination von optischen, zerstörungsfreien Inspektionstechniken, um präzise Messungen von kleinen Defekten auf dem Substrat zu liefern. Das Gerät wurde entwickelt, um eine Reihe anspruchsvoller Qualitätssicherungsanforderungen in den Märkten Halbleiter, LCD-Display und Optoelektronik zu erfüllen. AUGUST NSX-105 ist mit einer hochauflösenden Digitalkamera ausgestattet, die Bilder des Substrats mit bis zu 800 Megapixeln aufnimmt. Diese Bildaufbereitungsmaschine wird für Hochleistungsschauanwendungen entworfen und kann entweder mit einer normalen Weise oder mit Hopräzisionsweise verwendet werden. Im Normalmodus beträgt die Kamerabandbreite 400 Mbit/s, während im hochpräzisen Modus die Bandbreite der Kamera bis zu 800 Mbit/s erreichen kann. Das Werkzeug ist auch mit einer automatischen Kantenerkennung ausgestattet, die es ermöglicht, großflächige Substrate ohne manuelle Ausrichtung zu scannen. RUDOLPH NSX 105 ist mit seiner Vollfeld-Breitbandbeleuchtung in der Lage, Defekte bis zu 5 nm zu erkennen. Es kann auch Oberflächenrauheit, Verunreinigungen, Gruben und andere solche Defekte erkennen. Das Asset ist mit erweiterten Musterabstimmungen, Median- und Mittelungsalgorithmen ausgestattet, um die aufgenommenen Bilder zu analysieren. Es hat auch ein polygonales Mustererkennungsmerkmal, das bei der Erkennung komplexer Muster hilft. RUDOLPH/AUGUST NSX-105 ist in der Lage, Fehleranalysen, maschinelles Lernen und andere solche Aufgaben durchzuführen. Um den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Inspektion zu reduzieren, arbeitet RUDOLPH NSX-105 halbautomatisch. Ein Bediener kann die Parameter für die Inspektion einstellen und das Modell überprüft automatisch die Probe. Dies ermöglicht eine schnelle und genaue Inspektion großer Substrate. RUDOLPH/AUGUST NSX 105 verfügt auch über eine Mehrzonen-Datenanalyse-Funktion, mit der der Bediener Problembereiche auf dem Substrat leicht identifizieren und gegebenenfalls Korrekturmaßnahmen ergreifen kann. Insgesamt ist die Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung NSX 105 eine zuverlässige und leistungsstarke Inspektionslösung für großflächige Substrate, die präzise und genaue Messungen erfordern. Sein schnelles Bildgebungssystem, die automatische Kantenerkennung und erweiterte Mustererkennungsfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für die Inspektion einer Vielzahl von Substraten. Der halbautomatische Betrieb und die Mehrzonendatenanalyse reduzieren auch den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Inspektion.