Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 105D #9265789 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 105D ist eine High-End-Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung. Es bietet hervorragende Masken- und Wafer-Inspektionstechnologien mit mehrfacher Bildprüfung und einem Klick Fehlercharakterisierung. AUGUST NSX 105D besteht aus einem Wafer-Verarbeitungs- und Bilderfassungssystem, einem Wafer Substrate Array (WSA) und einer Mehrwinkel-Betrachtungseinheit. Diese Maschine bietet eine hochauflösende Kamera zur Abbildung von Wafern, ein Mehrkanal-Video-Display und ein eingebettetes Vision-Tool. Es ist in der Lage, präzise Wafer-Inspektionen mit einer Reihe von Hochleistungsmerkmalen durchzuführen. Die Bilderfassung von RUDOLPH NSX 105D ist in der Lage, hochauflösende Bilder der Wafer zu erfassen. Die WSA bietet auch mehrere Bilderfassungs- und Analysefunktionen und eignet sich somit für die Waferinspektion in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. Das Mehrwinkel-Betrachtungsmodell ermöglicht die Inspektion von Wafern aus verschiedenen Winkeln, was eine hohe Genauigkeit der Fehlercharakterisierung ermöglicht. Die hochauflösende Kamera kann helfen, kleine Merkmale und Defekte mit einer hohen Präzision zu unterscheiden, und die Bildaufnahme- und -verarbeitungsgeräte bieten eine automatisierte Qualitätssicherung. Die Mehrkanal-Videoanzeige ermöglicht eine einfache Inspektion und Überprüfung verschiedener Wafer aus mehreren Winkeln. Das Embedded Vision System ermöglicht eine detaillierte Überprüfung der Oberflächen der Wafer. Zusätzlich ermöglicht das Gerät mit der Ein-Klick-Defekt-Charakterisierung die schnelle Charakterisierung der erkannten Defekte, wie Zeilenpaar und Mikrofehler. Insgesamt ist NSX 105D eine ideale Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine mit mehreren Bildprüfungen und einem Klick Fehlercharakterisierung. Dieses Tool bietet sowohl hochauflösende Bildgebung als auch automatisierte Qualitätssicherung und eignet sich für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. Das Multi-Angle Viewing Asset bietet die Möglichkeit, Wafer aus verschiedenen Blickwinkeln zu inspizieren, was es zu einem zuverlässigen Modell für die Herstellung von Wafern im großen Maßstab macht.