Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 115D1 #293598225 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 115D1 ist eine umfassende Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine schnelle, hochauflösende Inspektion und Skalierbarkeit für eine Reihe von Anwendungen von der Halbleitermaskeninspektion bis zur kritischen hochauflösenden Inspektion und Fehlererkennung bietet. Dieses System verfügt über eine vollautomatische Inspektionssequenz, eine Autoalign-Funktion für die Lumineszenz der Maske und eine kontrastreiche, verbesserte Bildanzeige für hohe Vergrößerungen. AUGUST NSX 115D1 ist mit 25 Vergrößerungseinstellungen von 6X bis 900X ausgestattet, mit 5X bis 100X für schnelle, niedrige Vergrößerungskontrollen und 8X bis 900X für detaillierte Inspektion und Fehleranalyse. Eine Mix-and-Match-Inspektion und schnelle Wechsel zwischen Werkzeugsätzen sind zusätzliche Funktionen, die eine größere Flexibilität bei der Inspektion von Masken und Wafern bieten. Das Gerät verfügt auch über vier Hochleistungs-Digitalkameras, um die Bilddaten der Inspektion und Analyse der Masken oder Wafer zu erfassen. RUDOLPH NSX 115 D 1 wurde entwickelt, um außergewöhnliche Fehlererkennungsfunktionen zu bieten. Es ist in der Lage, Fehler zu erkennen oder anzuzeigen, die bis zu 0,2 Mikrometer klein und bis zu 8 Mikrometer groß sein können. Die Maschine bietet sowohl niedrige als auch hohe Kontrasterkennung und ein High-End-Mehrschicht-Erkennungswerkzeug sorgt für möglichst klare Bilder, indem eine Reihe von Bildauflösungen angezeigt wird, um Bildrauschen zu reduzieren. Das Asset umfasst zwei fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen für eine Superauflösung, die für eine leistungsstarke Inspektion erforderlich sind, und die Möglichkeit, kontrastarme, hochauflösende Bilder zu verarbeiten. Zusätzliche Funktionen wie Zoom in/out, manuelle Fokussierung, lokales Scannen und Messfunktionen ermöglichen eine bessere Inspektion und Analyse. In Bezug auf Masken- oder Wafer-Inspektion kann NSX 115 D 1 Hohlräume, Öffnungen, kurze Hosen, Grate und andere Mängel identifizieren. Mit seinem Autoalign-Feature ist es in der Lage, Maskenmuster im Substrat mit einer Genauigkeit von 2 μ m oder weniger auszurichten. Das Modell prüft auch Textur, Hervorhebung von Partikeln, Verzerrungen, Kantenmapping und klare/verzerrte Muster, die durch die Optik und Kameras nicht nachweisbar sind. RUDOLPH/AUGUST NSX 115 D 1 ist eine zuverlässige und einfach zu bedienende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die höchste Genauigkeit und Kontrolle für ein breites Anwendungsspektrum bietet. Mit seiner unschlagbaren Leistung, den überlegenen Eigenschaften und dem fortschrittlichen Design ist die NSX 115D die ideale Lösung für jeden Halbleiterherstellungsprozess.