Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 115D1 #9270582 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 115D1 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein hochentwickeltes, kompaktes und energieeffizientes System zur Inspektion von Halbleiterbauelementen. Es ist in der Lage, die Muster und Merkmale auf den Masken und Wafern effizient zu untersuchen und eine genaue Inspektion und Analyse der fertigen Produkte zu ermöglichen, um hochwertige und zuverlässige Wafer zu gewährleisten. Es bietet verschiedene Funktionen wie schnelle Bilderfassung und -korrektur, hochauflösende Bildgebung, automatisierte Verarbeitung und Messung und flexible Bilderfassungsmodi. Das Gerät verwendet eine fortschrittliche Lichtquelle mit hochheller Beleuchtung zur gleichmäßigen Abdeckung des Inspektionsbereichs. Dadurch können auch kleinste Merkmale an den Masken und Wafern erkannt werden. Der Benutzer kann auch den Beleuchtungspegel steuern, um die erforderliche Kontrast- und Kontrastempfindlichkeit zu erhalten. Die Maschine verfügt über eine integrierte Laserabtaststufe, die hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit bei der Bilderfassung bietet. Zusätzlich gibt es eine eigene Headstage, um die Wafer genau zu positionieren und auszurichten, um Fehler im Muster oder den Features zu erkennen. AUGUST NSX 115D1 verfügt über eine laserbasierte offene Architektur, die es einfach macht, kundenspezifische Analysen und Messungen an verschiedenen Mustern und Defekten anzubieten. Es bietet auch mehrere integrierte Vorverarbeitungsfunktionen, wie Filtern, Schärfen und Kantenerkennung, die eine schnellere und genauere Fehlererkennung ermöglichen. Das Werkzeug enthält auch eine hochauflösende Farbkamera, um eine Panoramabildung der zu untersuchenden Gegenstände zu erhalten. Außerdem gibt es einen 23,5-Zoll-LCD-Touchscreen-Monitor, der dem Benutzer eine einfache und intuitive Benutzeroberfläche zur Bedienung des Geräts bietet. Darüber hinaus ist RUDOLPH NSX 115 D 1 mit der neuesten integrierten Software ausgestattet. Der Anwender kann auf verschiedene Inspektions- und Analysefunktionen zugreifen, die eine genaue Erkennung von Defekten an den Masken und Wafern ermöglichen. Die Software bietet auch eine komplette 3D-Analyse der Bilder, die eine weitere Fehlererkennung und -bearbeitung ermöglicht. Das Modell ist mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, die einen vollständigen Zugriff auf die internen Einstellungen und Parameter des Instruments ermöglicht und eine effiziente Nutzung der Geräte im Produktionsprozess ermöglicht. Das Gerät zeichnet sich zudem durch einen Wärme- und Schwingungsschutz aus und eignet sich für den Einsatz in einer Vielzahl von Arbeitsbedingungen. Insgesamt ist RUDOLPH NSX 115D1 Mask & Wafer Inspection System eine fortschrittliche und hochmoderne Einheit, die Anwendern eine umfassende und genaue Bewertung der Masken und Wafer ermöglichen kann. Seine Eigenschaften und Fähigkeiten machen es zu einem idealen Werkzeug für die Inspektion von Halbleiterbauelementen.