Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 115D1 #9270587 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 115D1 ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die Inspektion von Halbleitermasken und Wafern mit hohem Volumen ausgelegt ist. Das System ist für die vollständige Überwachung der Produktionslinien konzipiert und besteht aus zwei Modulen, der Pro-Metrix Mask & Wafer Inspection Unit und der Pro-Opt-Wafer Inspection Machine. Das Pro-Metrix Mask & Wafer Inspection Tool ist eine Hochleistungsplattform, die sowohl Masken als auch Wafer mit höchster Genauigkeit inspiziert. Es verfügt über eine 14-Megapixel-CCD-Kamera, die bis zu 10 Bilder pro Sekunde aufnimmt und eine Echtzeit-Visualisierung mit einer Genauigkeit von bis zu 8 Mikron Auflösungen ermöglicht. Es verfügt über ein intuitives 10,4 "Touch-Panel, das eine einfach zu bedienende Benutzeroberfläche bietet und eine effiziente Bedienung des Elements ermöglicht. Die Software umfasst eine Reihe von Inspektionswerkzeugen, einschließlich kritischer Dimensionsprüfung (CD), Fehlererkennung, Overlay-Fehleranalyse und Prozessoptimierung. Das Pro-Opt-Wafer Inspektionsmodell ist speziell für die Inspektion von Photomasken, insbesondere solchen mit mikroskopischen Defekten, konzipiert. Es ist mit innovativen Funktionen wie Hochgeschwindigkeits-Mehrpunkt- und Kantenerkennung, automatisierte Fehlererkennung und Klassifizierung, 4D-Fehlervisualisierung und Anmerkung geladen. Das Gerät verwendet einen fortschrittlichen Sicht- und maschinellen Lernalgorithmus, um Fehler zu identifizieren und mit einer Reihe von aussagekräftigen Funktionen zu klassifizieren. Darüber hinaus bietet das System benutzerfreundliche Softwarefunktionen wie Batch-Inspektion, Batch-Analyse, Reporting und Rückverfolgbarkeit. Insgesamt ist die AUGUST NSX 115D1 Mask & Wafer Inspection Unit eine fortschrittliche und funktionsreiche Maschine, die eine hohe Messgenauigkeit und hervorragende Fehlererkennungsfunktionen bietet. Die intuitive Benutzeroberfläche und das breite Spektrum an Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für Produktions- und Forschungszwecke. Das Tool liefert effiziente, zuverlässige und genaue Ergebnisse und ist damit eines der zuverlässigsten Masken- und Wafer-Inspektionssysteme auf dem Markt.