Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 320 #9229193 zu verkaufen

RUDOLPH/AUGUST NSX 320 Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein leistungsfähiges integriertes Werkzeug zur Qualitätskontrolle und Fehlererkennung verwendet. Es kombiniert fortschrittliche Optik, Bildverarbeitungstechnologie und eine intuitive benutzerfreundliche Umgebung, um zuverlässige Messungen von Topographie, Waferprofil und Mikrostruktur auf einer breiten Palette von Materialien, bis zu 6 "Wafern, zu ermöglichen. Zu den Hauptkomponenten des Systems gehören eine hochauflösende Kamera, eine optische Box, eine xy-Bühne und eine Festkörperaufnahmeeinheit. Die Optikschachtel nimmt ein direktes optisches Mikroskop, einen quadratischen Kombinationslaser interferometer und eine Lasermaschine auf. Das optische Mikroskop enthält eine hochauflösende CCD-Kamera mit variabler Vergrößerung von 4x bis 30x. Das Laserwerkzeug besteht aus vier Lasern, die zur Messung des Höhenprofils der Wafer exakt kalibriert sind. Die xy-Stufe ermöglicht es, die Wafer zu verschiedenen Fokuspunkten zu bewegen. AUGUST NSX 320 verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen, um die aufgenommenen Bilder mit Geschwindigkeit und Präzision zu verarbeiten. Die Bilder werden zu Topographie- und Reflexionskarten der Wafer mit Genauigkeit bis zu 1 Mikron verarbeitet. Die Karten werden dann in einem farbcodierten Display ausgelegt, so dass Techniker Fehler an den Wafern schnell erkennen können. In Verbindung mit den Autofokus-Funktionen der Bühne ermöglicht dies dem Asset die genaue Messung des Profils, der Micron-Level-Features und der Zusammensetzung jedes Wafertyps. Darüber hinaus umfasst die RUDOLPH NSX 320 Software eine umfassende Palette von Tools zur Automatisierung der Erkennung und Klassifizierung von Fehlern. Dazu gehören Algorithmen zur Fehlererkennung, Bewertung und Charakterisierung. Die Software enthält auch eine Bibliothek mit Fehlersignaturen, so dass Inspektoren bekannte Fehlersignaturen schnell vergleichen können, um sie in einem Bruchteil der Zeit zu identifizieren, die ein Mensch benötigt. Das Modell NSX 320 ist ein integriertes, leistungsstarkes und hochpräzises Werkzeug zur Inspektion und Analyse von Wafern und Masken. Es kombiniert modernste Optik, Bildverarbeitung und benutzerfreundliche Software, um eine genaue Messung einer Vielzahl von Materialien, bis zu 6 "Wafern, zu ermöglichen. Sie ist für die moderne Halbleiterherstellung unverzichtbar und gewährleistet die Qualität und Zuverlässigkeit von hergestellten Wafern.