Gebraucht RUDOLPH / AUGUST NSX 95 #9206625 zu verkaufen

ID: 9206625
Wafergröße: 8"
Defect inspection system, 8" WHS Manual load type.
RUDOLPH/AUGUST NSX 95 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein leistungsstarkes, automatisiertes optisches Lithographiewerkzeug, das in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde entwickelt, um genaue und schnelle Inspektion von Retikel- und Wafermasken durchzuführen. AUGUST NSX-95 bietet eine umfassende Reihe von erweiterten, zerstörungsfreien Fehlererkennungs-, Charakterisierungs- und Analysefunktionen, die eine schnelle Charakterisierung und Feinabstimmung ermöglichen, um die Kundenanforderungen und -spezifikationen zu erfüllen. RUDOLPH NSX 95 besteht aus mehreren Einrichtungsstufen, um die Inspektion für einen bestimmten Maskentyp anzupassen, wie sie auf Retikeln und Wafern zu finden sind. Mit dem Wafertransportsystem wird die Maske an Ort und Stelle bewegt und auf der Oberflächenbühne gesichert. Anschließend wird das Retikel auf die Oberflächenstufe aufgesetzt und ausgerichtet, so dass die Mitte des Bildes genau mit der Oberfläche des Wafers abgestimmt werden kann. Sobald das Retikel richtig platziert ist, scannt eine optische Ausrichteinheit das Retikel, um die höchste Genauigkeit der Ergebnisse zu gewährleisten. Die Auflösung der optischen Elemente von RUDOLPH/AUGUST NSX 95 ist sogar höher als konkurrierende Systeme, um eine schnellere und genauere Inspektion zu gewährleisten. Dies ermöglicht eine genauere Überprüfung der Ausrichtung zwischen Maskenelementen und der Oberfläche des entsprechenden Wafers. Es bietet auch eine erweiterte Tiefe des Fokus. Diese erweiterte Fokustiefe ermöglicht es dem Inspektionswerkzeug, in Nuten und Gräben verborgene Merkmale zu identifizieren, die mit bloßem Auge möglicherweise nicht gut sichtbar sind. Darüber hinaus verfügt NSX 95 über erweiterte Funktionen zur Fehlererkennung. Die Anlage ist mit ausgeklügelten Algorithmen programmiert, um Fehler zu lokalisieren, die elektrische, optische oder strukturelle Kategorien umfassen. Es ist in der Lage, organische, anorganische, Gitter- oder Strukturdefekte zu erkennen und zu unterscheiden. Verschiedene Einstellungen ermöglichen es Benutzern, zwischen verschiedenen Fehlerkategorien zu unterscheiden und die Prozesszeit kann mit dem automatisierten Setup beschleunigt werden. Neben der Fehlererkennungsmetrik bietet AUGUST NSX 95 eine umfassende Leistungsanalyse. Er wertet Schlüsselparameter wie Signal-Rausch-Verhältnis, Kontrastverhältnis, Fehlerbildkontrast und Fehlergröße aus. Darüber hinaus kann das Modell präzise Druckbereiche simulieren, die mehr als zehnmal so groß wie das Sichtfeld sind. Diese erweiterte Simulationsfähigkeit ermöglicht es Ingenieuren, Druckbarkeit und Leistung von großflächigen Designs vorherzusagen. NSX 95 ist ein unschätzbares Werkzeug zur Inspektion und Analyse von Retikel- und Wafermasken. Seine Kombination aus optischer Ausrichtung und fortschrittlicher Fehlererkennung macht es hervorragend für die Serienproduktion geeignet. Die erweiterte Fokustiefe und die detaillierte Leistungsanalyse erhöhen die Produktionszuverlässigkeit.
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