Gebraucht RUDOLPH NSX 105 #9362039 zu verkaufen

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RUDOLPH NSX 105
Verkauft
ID: 9362039
Wafergröße: 12"
Macro defect inspection system, 12".
RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein System speziell entwickelt, um die schnelle Inspektion und Überprüfung von Masken und Wafern zu erleichtern. Es bietet eine Vielzahl von Funktionen, die es ideal für den Einsatz in der Produktion, Forschung und Entwicklung Industrien machen. Das Gerät verfügt über eine anspruchsvolle Wafererkennungs- und Bildgebungsmaschine. Dieses Tool verwendet elektromagnetische Bildgebungstechnologie, um ein zweidimensionales Bild einer Maske oder Wafer zu erzeugen, die bis zu 3 µm in der Auflösung ist. Dies ermöglicht die Identifizierung und Inspektion von Fehlern oder sonstigen Anomalien, die auf der Oberfläche der Maske oder des Wafers vorhanden sein können. RUDOLPH NSX-105 verfügt über einen hochempfindlichen Sensor, der in der Lage ist, die Gleichmäßigkeit von Merkmalen auf einem Wafer oder einer Maske zu erkennen und zu messen. Dies gibt Einblick in den Herstellungsprozess der Wafer und Masken. Darüber hinaus wird die automatisierte Analyse des Wafers oder der Maske mit hoher Genauigkeit durchgeführt, wodurch der Zeitaufwand für die Inspektion eines einzelnen Wafers oder einer Maske reduziert wird. Das Asset verfügt außerdem über ein automatisiertes Datenerfassungs- und Analysemodell. Sobald das Bild der Maske oder des Wafers gesammelt ist, wird es analysiert und direkt an die Produktionslinie oder das Archiv gesendet, wo die Informationen überprüft werden können. Die automatisierte Datenerfassungs- und Auswerteausrüstung verarbeitet alle Daten und ermöglicht eine effizientere Überprüfung der Wafer und Masken. NSX 105 bietet auch eine breite Palette von Software-Optionen. Das System wird unter Windows ausgeführt, sodass Benutzer die Benutzeroberfläche und Einstellungen anpassen können. Auf diese Weise können Benutzer das Gerät an ihre spezifischen Bedürfnisse und Vorlieben anpassen. Schließlich ermöglicht NSX-105 die Fernbedienung. Auf diese Weise können mehrere Bediener an verschiedenen Standorten die Maschine bedienen, so dass eine umfassende Überprüfung mehrerer Wafer und Masken zeitnah und effizient möglich ist. Insgesamt ist das RUDOLPH NSX 105 Mask & Wafer Inspection Tool ein anspruchsvolles Asset, das die Aufgabe der Masken- und Waferinspektion vereinfacht. Das Modell verfügt über modernste Bildgebungstechnologie und eine automatisierte Datenerfassungs- und Analyseausrüstung. Darüber hinaus ermöglicht es eine umfassende Überprüfung und anpassbare Software. Alle diese Merkmale machen RUDOLPH NSX-105 Mask & Wafer Inspection System eine ideale Wahl für Produktion, Forschung und Entwicklung.
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