Gebraucht RUDOLPH NSX 115D #9232257 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

RUDOLPH NSX 115D
Verkauft
ID: 9232257
Automatic defect inspection system Basler inspection camera included.
RUDOLPH NSX 115D Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist eine hochentwickelte Maschine für die Herstellung von integrierten Schaltungs (IC) Geräte, die optische mikroelektronische Komponenten enthalten. Mit seiner Präzisionsoptik, dem Wafer-Sensor und dem mikroprozessorgesteuerten Betrieb liefert NSX 115D einwandfreie Genauigkeit in zwei Prüfmodi. Durch den ersten Modus, die dynamische Bildgebung, kann dieses System 15.000 Auswertungen pro Stunde mit digitalen Bildern mit einer Auflösung von bis zu 5,0 Mikrometern abschließen. Der zweite Modus Mapping ermöglicht es dem Bediener, die Abmessungen, Winkel und Toleranzen eines Geräts genau zu berechnen. Das Gerät bietet robuste Maschinenleistung und Vielseitigkeit, die für die Überprüfung der physikalischen Eigenschaften komplexer Teile unerlässlich sind. RUDOLPH NSX 115D bietet eine breite Palette von Inspektionsmöglichkeiten für Anwendungen auf Masken- und Waferebene. So können Anwender die Vorder- und Rückseite ihrer mikroelektronischen Gerätestrukturen vollständig analysieren. Dieses Tool verwendet automatisierte Performance-Tune-Ups, die eine schnelle Dateneingabe mit Masken- und Waferbildern ermöglichen. Benutzer können ihre Analyse anpassen, um Genauigkeit zu gewährleisten und Bilder von hoher Qualität über einen großen Bereich aufzunehmen. Die Bildverarbeitungsmodi des Assets können Fehler wie Chipspalte, IC-Mikrofaults, Fehlerpunkte und externe Fehler erkennen. Dieses Modell ist in der Lage, 3D-Daten in 2D- und 3D-Form zu erzeugen. Für die einseitige Maskeninspektion erfasst die Ausrüstung wesentlich feinere Details als andere Maskeninspektionssysteme wie Luftspalte, Verunreinigungen und Mängel. Mit genauen und zuverlässigen Ergebnissen hat NSX 115D Masken- und Wafer-Inspektionssystem die Produktionsleistung von Halbleiterbauelementen enorm erhöht. Seine Stabilität und Genauigkeit der Einheit haben es ermöglicht, in den komplexesten Produktionsprozessen eingesetzt zu werden, die Qualität der Produkte zu erhöhen und eine hohe Zuverlässigkeit zu gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor