Gebraucht RUDOLPH NSX 115D1 #9260012 zu verkaufen

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ID: 9260012
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Automated defect inspection system, 12" 2009 vintage.
RUDOLPH NSX 115D1 ist eine High-Tech-Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um genaue und zuverlässige Photomaske/reticle Ausrichtung und Genauigkeit zu bieten. Das System umfasst zwei unabhängig voneinander angetriebene XY-Stufen für die Masken- oder Wafer-Manipulation, die eine Hochgeschwindigkeitsausrichtung, verschiedene Linsenoptionen für unterschiedliche Vergrößerungen, Präzisionswinkelmessung und -zentrierung sowie andere Funktionen ermöglichen, die die höchste Genauigkeit des Inspektionsprozesses gewährleisten. NSX 115D1 ist in der Lage, verschiedene Masken und Wafer mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit zu überprüfen. Das Gerät verfügt über zwei Bewegungsachsen, eine X-Achse und eine Y-Achse, die einen dynamischen Bildaufnahmebereich von bis zu 600 mm × 800 mm bietet. Die Maschine ist in der Lage, eine genaue Positionierung und hochpräzise Ausrichtung verschiedener Photomasken und Retikel, die in der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden, bereitzustellen. Neben den beiden Bewegungsachsen bietet RUDOLPH NSX 115D1 auch eine Vielzahl von Objektivoptionen für unterschiedliche Vergrößerungen, von 1/3X bis 16X. Dies bietet dem Anwender die Flexibilität, Wafer und Masken mit hoher Vergrößerung zu überprüfen und gleichzeitig die höchste Genauigkeit zu gewährleisten. Das Werkzeug kann auch Winkelabweichungen bis zu einem Grad Genauigkeit messen, um eine genauere Ausrichtung der untersuchten Maske oder des Wafers zu gewährleisten. Um höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten, umfasst NSX 115D1 Funktionen zur automatischen Fokussierung und Nachmessung. Die Funktion zur automatischen Fokussierung verwendet ein pneumatisches Element, um automatisch die beste Bildansicht zu erhalten. Dies gewährleistet eine stetige und genaue Bestimmung der am besten passenden Ausrichtung zwischen Maske und Wafer. In der Zwischenzeit bieten die Nachmessfunktionen einen Multi-Parameter-Bericht, der gespeichert und zur Überprüfung und/oder zukünftigen Referenz aufgerufen werden kann. Schließlich enthält RUDOLPH NSX 115D1 zusätzliche Funktionen, die dem Benutzer eine einfache Bedienung bieten. Das dreidimensionale Touchscreen-Display bietet eine beschreibende und intuitive Benutzeroberfläche für einfache Navigation. Das Modell bietet auch ein umfassendes Schulungsprogramm, bestehend aus Vor-Ort-Kursen und Online-Kursen, die Benutzer mit dem Wissen ausstatten, die NSX-Geräte zu bedienen und effizient zu beheben. Insgesamt ist das NSX 115D1 Masken- und Wafer-Inspektionssystem eine ideale Lösung für eine hochgenaue und zuverlässige Ausrichtung und Genauigkeit von Fotomasken/Retikeln und bietet dem Benutzer eine einfache und effektive Möglichkeit, Masken und Wafer zu überprüfen und auszurichten.
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