Gebraucht RUDOLPH Waferview 320 #9311789 zu verkaufen
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ID: 9311789
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Macro defect inspection system, 12"
2005 vintage.
RUDOLPH Waferview 320 ist eine führende, umfassende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Es kombiniert einen digitalen CMOS-Sensor mit fortschrittlicher Software-Programmiertechnologie, um die hochwertigste Bildgebung und Analyse verschiedener Fehler- und Konstruktionsinformationen auf fotoverarbeiteten Masken und Wafern zu ermöglichen. Waferview 320 bietet Bilder bis zu 2000 Mikrometer pro Pixel (2x bessere Auflösung als andere Systeme) und sorgt für eine extrem genaue Fehlererkennung und -analyse. Die Funktionen zur Bildaufnahme und Fehlerberichterstattung vereinfachen die vollständige Inspektion von Wafern und sorgen für höchste Produktqualität. Ein einzigartiges Merkmal von RUDOLPH Waferview 320 ist sein Laser Autofokus und Tracking. Dieses System ermöglicht eine detailorientierte Bildgebung und Fehlerortung, die für die genaue Inspektion von Wafern entscheidend sind. Waferview 320 verwendet auch fortschrittliche Kantenerkennungs- und Kontrastalgorithmen, die die Erkennung und Analyse kleinerer, weniger offensichtlicher Fehler ermöglichen. Neben seinen bildgebenden Fähigkeiten führt RUDOLPH Waferview 320 auch eine breite Palette von Messungen zur Erkennung und Klassifizierung von Fehlern durch. Diese Messungen werden mit hoher Präzision durchgeführt, so dass Messungen von so klein wie einzelne Mikrometer in der Größe. Die Softwareprogrammierung von Waferview 320 ist benutzerfreundlich und intuitiv. Es ermöglicht eine einfache Einrichtung und Bedienung, so dass der Benutzer die Parameter einfach anpassen und die Inspektionseinheit an ihre spezifischen Anforderungen anpassen kann. Darüber hinaus bietet die Software einen umfassenden Anwenderbericht, der detaillierte Informationen zu etwaigen Mängeln im Inspektionsprozess liefert. Insgesamt ist die RUDOLPH Waferview 320 Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine eine All-in-One-Lösung für die Untersuchung defekter oder fehlerhafter fotobearbeiteter Masken und Wafer. Es bietet erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen und Fehlermessungen und bietet die höchste Auflösung und Qualität der Bildverarbeitung sowie eine einfache Einrichtung und Bedienung des Benutzers. Diese Merkmale gewährleisten eine genaue Inspektion des Produkts und führen zu einer optimalen Produktqualität.
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