Gebraucht RUDOLPH WV 320 #9373222 zu verkaufen

RUDOLPH WV 320
ID: 9373222
Wafergröße: 12"
Macro defect inspection systems, 12".
RUDOLPH WV 320 ist eine Inspektionslösung für die schnelle und genaue Messtechnik von Wafern und Halbleitermasken. Das System besteht aus einer optomechanischen Baugruppe, einer Kamera und Software und bietet Anwendern zuverlässige, reproduzierbare und automatisierte Messungen. Das Gerät kann Wafer und Masken mit einem 2-dimensionalen Raster-Scan messen und die Wafer und Masken mit der motorisierten Bühne bis zu 50 Mikrometer bewegen. Die Maschine ist mit einer ultrahochauflösenden CCD-Kamera ausgestattet, die Messungen der Messtechnik mit hoher Genauigkeit ermöglicht. Es verfügt über ein einstellbares Sichtfeld, das es dem Benutzer ermöglicht, die Kamera von 3,2 mm auf 63 mm zu bewegen. Die Kamera unterstützt mehrere Bildaufnahmemodi, wie eindimensionale, zweidimensionale und interessierende Scanbereiche. Die Software-Suite bietet dem Benutzer eine Reihe von Funktionen, um den Messvorgang zu verwalten. Die Software-Suite umfasst einen Waferdatenmodell-Editor, ein Datenerfassungsmodul, ein Metrologiemodul und ein Automatisierungsmodul. Die Daten können in den gewünschten Varianten wie 3x3 Rasterscan, lineares Scannen oder zeilenweise Scannen erfasst werden. Das Datenerfassungsmodul ermöglicht den Import von Daten aus einer Vielzahl von Quellen, darunter Photomasken, Wafer, CAD-Zeichnungen und Spektren. Das Metrologiemodul bietet eine einfach zu bedienende Benutzeroberfläche und Ertragsanalyse. Mit dem Automatisierungsmodul können Anwender den Messvorgang für iterative Messungen wie 3D-Rasterscans, räumliche Scans und Fehlererkennung programmieren und automatisieren. RUDOLPH WV320 Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug ist eine leistungsstarke und zuverlässige Inspektionslösung für Halbleitermasken und Wafer. Das Asset bietet präzise und wiederholbare Messungen mit der ultrahochauflösenden CCD-Kamera und fortschrittlicher Messtechnik-Software, die eine automatisierte Messtechnik und Fehlererkennung ermöglicht. Das Modell ist gut ausgestattet, um komplexe Inspektionsprojekte mit Echtzeit-User-Feedback und automatisierter Datenerfassung abzuwickeln. Die Ausrüstung ist schnell, präzise und zuverlässig und bietet dem Benutzer ein effektives Werkzeug zur Inspektion und Überprüfung von Halbleitermasken und Wafern.
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