Gebraucht SDI CMS III-A #9045538 zu verkaufen

SDI CMS III-A ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Hochgeschwindigkeitsanalyse von Wafer- und Halbleitermaskenmustern. Dieses System verwendet eine hochmoderne automatisierte Scaneinheit mit 250 nm Auflösung, um die Strukturen auf dem Wafer und Masken für die Fehleranalyse zu messen und auszuwerten. Seine Inspektionsmöglichkeiten bieten Anwendern eine schnelle, genaue und reproduzierbare Inspektion, die verschiedene Arten von Defekten erkennen und analysieren kann, einschließlich lithografischer Fehler, ausgedünnter Masken, fehlender Funktionen und Kontamination. Die Maschine besteht aus vier Hauptkomponenten: der Lichtquelle, dem beleuchteten Wafer, dem Bildsensor und dem an einen Monitor angeschlossenen Computer. Die Lichtquelle ist eine Kombination aus zwei ultravioletten Lasern, die eine monochrome Beleuchtung für eine genaue Bildgebung bereitstellen; eine Flüssigkristallanzeige (LCD), die das Laserlicht optimal lenkt und die Bestrahlung der Vorrichtung mit Strahlungswärme minimiert; und ein diffraktives optisches Element (DOE), das das Sichtfeld des Werkzeugs vergrößert und die Anzahl der für die Analyse benötigten Bilder reduziert. Der beleuchtete Wafer wird oberhalb des LCD platziert und belichtet die Zielstrukturen dem Laserlicht, das dann von einem CMOS-Bildsensor detektiert wird. Der Bildsensor kann Strukturen bis zu 250 nm auflösen und nimmt die Bilder ab und sendet sie zur Analyse an einen Computer. Die ausgeklügelten Verarbeitungsalgorithmen, die im Asset vorhanden sind, ermöglichen die Erfassung und Analyse der Bilder innerhalb von Sekunden. Es wurde entwickelt, um alle Arten von Defekten zu erkennen, einschließlich fehlender Merkmale, Unregelmäßigkeiten in der Struktur, Kratzer, Kontamination und mehr; und um umfassende Berichte zu erstellen, damit Ingenieure Probleme schnell beheben können. Der Computer ist auch mit einem Monitor verbunden, der die aufgenommenen Bilder sowie alle vom Modell gesammelten Daten anzeigt. Diese Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung wird für jede Fabrikationsanlage und Laboreinstellung in der Halbleiterindustrie empfohlen und bietet Benutzern die Möglichkeit, Wafer und Masken schnell und präzise bei hohen Geschwindigkeiten zu inspizieren und gleichzeitig hochentwickelte Analysealgorithmen zur Erkennung von Defekten zu verwenden. Dieses System ist auf Benutzerfreundlichkeit ausgelegt und ermöglicht eine schnelle, genaue Inspektion und Analyse der Wafer- und Maskenstrukturen.