Gebraucht SDI SPV / PDM 3020 #9042454 zu verkaufen

SDI SPV / PDM 3020
ID: 9042454
Wafergröße: 8"
Semiconductor diagnostics system, 8".
SDI SPV/PDM 3020 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es wurde entwickelt, um einen umfassenden und anspruchsvollen Satz von Inspektionswerkzeugen für die Masken- und Waferproduktion bereitzustellen. Es umfasst vier Hauptkomponenten: ein automatisiertes Waferinspektionssystem, eine automatisierte Maskeninspektionseinheit, eine Paneelinspektionsmaschine und eine manuelle Komponente zur Unterstützung der manuellen Inspektion. Das automatisierte Wafer-Inspektionswerkzeug verwendet eine Vielzahl von Sensoren und bildgebenden Technologien, die Eigenschaften wie Größe, Form, Fehlerdichte und elektrische Merkmale auf dem Wafer erkennen und messen. Es ist in der Lage, Fehler, Anomalien und Einschlüsse zu erkennen. Die von ihm erzeugten Daten können dann vom Asset analysiert werden, um etwaige Abweichungen zu identifizieren und den Ertrag eines Produktionslaufs zu ermitteln. Das automatisierte Maskenprüfungsmodell bietet eine detaillierte Maskenanalyse, einschließlich Deformitäten, Topographie und Defekte. Es ist in der Lage, eine Reihe von Fehlern zu erkennen, einschließlich Resistungleichförmigkeit, Dunkelkorndefekte, Lichtverschmutzungsfehler, Pinhole und kritische Maßfehler. Die Paneelinspektionsausrüstung ist so konzipiert, dass sie eine breite Palette von Messungen an Paneelen oder isolierten Geräten ermöglicht. Dazu gehören Messungen zur Leistungscharakterisierung, Leistungskalibrierung, statistische Prozesssteuerung (SPC) und Ertragsanalyse. Die manuelle Komponente des Systems bietet umfassende Inspektionsmöglichkeiten wie mikroskopbasierte Analyse der Maskenqualität, Werkzeugauswertung und Wafer-Mapping. Es verwendet fortgeschrittene Mikroskopietechniken wie Hellfeld und Dunkelfeld Inspektion, Rasterelektronenmikroskopie, Reflexionstechniken, Atomkraftmikroskopie und vieles mehr. Zusammenfassend bietet die Masken- und Wafer-Inspektionseinheit SPV/PDM 3020 eine umfassende und präzise Analyse von Masken und Wafern mit hohen Genauigkeitsstandards. Diese Maschine ist in der Lage, eine Vielzahl von Fehlern und Anomalien für erhöhte Ausbeute Leistung zu erkennen. Es bietet auch detaillierte Messungen für Ertragsanalyse, Prozesskontrolle und Leistungscharakterisierung.
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