Gebraucht SEMILAB / SDI WT-2000D #293759095 zu verkaufen

SEMILAB/SDI WT-2000D Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte bieten unglaublich detaillierte Messungen von Metalleigenschaften, Resistfunktionen und optischen Inkonsistenzen an Masken und Wafern. Es wurde speziell entwickelt, um Unregelmäßigkeiten zu ermitteln, die einen Retuschiervorgang eines Geräts rechtfertigen, und ermöglicht eine schnelle und genaue Erkennung von grafischen Mustern, die eine verbesserte Genauigkeit der Probenanalyse und Qualitätskontrolle ermöglicht. Das System ermöglicht die Feinsteuerung von Parametern wie Vergrößerung, Messbereich, Linienabstand, Diagrammgeschwindigkeit, Sichtfeld und mehr. Damit können SDI- WT-2000D eine Vielzahl von Tests und Maßmessungen präzise und schnell durchführen. Der multi-parametrische Analyseansatz eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter Maskendefektanalyse, Seiten- und Linienquerschnittsanalyse, Form- und Kantengeometrieanalyse, Linienbreitenanalyse und noch komplexere Bildtests. Das Gerät verfügt über eine vollautomatische und integrierte Lupe mit mechanischen Stufen und einer leistungsstarken Präzisionskameramaschine. Dadurch ist sichergestellt, dass alle Komponenten des Werkzeugs kompatibel sind, was genaue Messungen und Fotoausrichtung auch für nicht unterscheidbare Objekte ermöglicht. Darüber hinaus verfügt es über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche, die ein einfach zu bedienendes Bedienfeld und Verknüpfungen für komplexere Aufgaben bietet. SEMILAB WT-2000D bietet auch eine proprietäre Bildkalibrierung, die Fehler durch Objektivverzerrungen oder falsche Fokussierung kompensiert. Das resultierende Bild ist während des Analyseprozesses viel zuverlässiger und genauer. Die breite Palette der verfügbaren Vergrößerung (bis zu 1000X) ermöglicht eine präzise Analyse auch von kleinsten Eigenschaften der Probe. Insgesamt ist WT-2000D Masken- und Wafer-Inspektion eine ideale Wahl für diejenigen, die nach einer effizienten, zuverlässigen und genauen Möglichkeit suchen, Fehler an Masken und Wafern zu erkennen. Der multiparametrische Ansatz und das leistungsstarke Lupen- und Kameramodell bieten Anwendern genügend Flexibilität, um schnell und präzise eine Vielzahl von Tests durchzuführen.