Gebraucht SEMITEST Epimet II #9193399 zu verkaufen

SEMITEST Epimet II ist ein leistungsfähiges, automatisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das entwickelt wurde, um sowohl Fehler in Halbleitermasken als auch Wafern schnell und genau zu identifizieren. Durch die Integration ausgeklügelter Bildverarbeitungsalgorithmen mit Mehrwellenlängenhelligkeitsfeld und Dunkelfeldbildgebung bietet Epimet II eine detaillierte, hochauflösende Inspektion dieser kritischen Elemente. SEMITEST Epimet II verwendet einen hochauflösenden bildgebenden Sensor, der an einem Präzisions-Roboterarm befestigt ist und die gesamte Masken- und Waferoberfläche scannen kann. Der bildgebende Sensor nimmt Helligkeits- und Dunkelfelddaten in sichtbaren, nahen Infrarot- und tiefen UV-Spektren auf. Der automatisierte Arm wird dann über eine Probe geführt, so dass das System Tausende von Winkelansichten der Probe mit mehreren Auflösungen erfassen kann. Insgesamt bietet Epimet II überlegene Bildklarheit und Kontrast zur genauen Fehlererkennung. Die erhobenen Daten werden sofort auf Defektwerte - einschließlich Kratzern, Hohlräumen und Verunreinigungen - analysiert und innerhalb von Sekunden detaillierte Ergebnisse vorgelegt. Die benutzerfreundliche Systemoberfläche ermöglicht die gleichzeitige Inspektion aller Masken und Wafer über eine Produktionslinie hinweg und weist die Betreiber auf mögliche Mängel hin. SEMITEST Epimet II ist ein leistungsstarkes Werkzeug für Halbleiterhersteller, das in der Lage ist, die Produktionszeiten deutlich zu reduzieren und gleichzeitig eine hochgenaue Inspektion für jede Maske und jeden Wafer zu gewährleisten. Durch den Einsatz der neuesten Bildanalysetechnologie ermöglicht Epimet II die automatische Erkennung von Defekten in einem Bruchteil der Zeit, die manuelle Prozesse erfordern. Mit seiner benutzerfreundlichen Oberfläche und schnellen Analysezeiten sorgt SEMITEST Epimet II dafür, dass jede Maske und jeder Wafer gut auf die Produktion vorbereitet ist.