Gebraucht SLD FGN-20 #9268535 zu verkaufen

SLD FGN-20 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes System zur Inspektion von Masken und Wafern. Mit seiner leistungsstarken Optik, fortschrittlichen Algorithmen und der hochmodernen Bildverarbeitung ist das Gerät in der Lage, sowohl Masken als auch Wafer schnell und genau zu inspizieren. Die Maschine nimmt zunächst ein vorgelagertes Bild einer Maske und eines Wafers auf, das auf der integrierten 5-Megapixel-Digitalkamera aufgezeichnet ist. Dieses Bild wird dann durch ausgeklügelte Mustererkennungsalgorithmen analysiert, um eventuelle Defekte und Anomalien in den Masken und Wafern zu erkennen. Beim Erkennen eines Defekts oder einer Anomalie stellt das Tool eine integrierte 3D-Anzeige mit genauen Stellen der Defekte innerhalb einer umfassenden Fehlerkarte bereit. Das Asset ist auch in der Lage, erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen bereitzustellen, wie das Anwenden von Farbfiltern auf dem Bild oder das Anheben von Signalen auf dem Monitor, um den Standort von Fehlern weiter zu identifizieren. FGN-20 ist in der Lage, verschiedene Defekte und Anomalien an Masken und Wafern zu erkennen, einschließlich Kratzern, Gruben und Flecken. Es ist auch in der Lage, Farbschwankungen zu erkennen, um Fehlalarme bei Fehlern zu vermeiden. Darüber hinaus ermöglicht das Modell Benutzern, die Empfindlichkeit der Ausrüstung einzustellen, um verschiedene Arten von Defekten und Anomalien zu erkennen. Das integrierte Softwarepaket ermöglicht Anwendern die einfache Verwaltung des Inspektionsprozesses und ermöglicht ihnen den Zugriff auf detaillierte Daten und das Hochladen von Inspektionsergebnissen. Diese Daten können für Analysen und Verbesserungen in späteren Inspektions- und Produktionsprozessen verwendet werden. Darüber hinaus können SLD- FGN-20 problemlos in andere optische Inspektionssysteme integriert werden, was weitere Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Prozess ermöglicht. Insgesamt ist FGN-20 Mask & Wafer Inspection System eine fortschrittliche, automatisierte Einheit, die einen schnellen, effizienten Masken- und Wafer-Inspektionsprozess ermöglicht. Mit seinen effizienten Algorithmen und der ausgeklügelten Bildverarbeitung ist es in der Lage, verschiedene Arten von Defekten und Anomalien schnell und genau zu erkennen. Das integrierte Softwarepaket erleichtert die Verwaltung des Inspektionsprozesses und den Zugriff auf detaillierte Daten. Darüber hinaus ist die Maschine einfach in andere optische Inspektionssysteme integriert, so dass Anwender die Genauigkeit und Zuverlässigkeit im Produktions- und Inspektionsprozess weiter erhöhen können.