Gebraucht SONIX CSAM UHR 2001 #100833 zu verkaufen

SONIX CSAM UHR 2001 ist eine fortschrittliche, leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es wurde entwickelt, um eine genaue und präzise automatisierte Fehlerauflösung und Analyse von Halbleiterscheiben und -masken durchzuführen, wodurch höhere Erträge bei der Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente erzielt werden. Die CSAM UHR 2001 verwendet ein hochauflösendes optisches System, das in der Lage ist, eine Vielzahl von Defekten verschiedener Größen, Formen, Formen und Orte zu erkennen. Dank seiner automatisierten Fehlerauflösungs- und Analysefunktionen können Endbenutzer Fehler und potenzielle Prozessprobleme schnell und genau identifizieren und so Zeit und Rätselraten beseitigen. Damit ist SONIX CSAM UHR 2001 die ideale Einheit für die strenge Inspektion von Halbleiterscheiben und Masken. Herzstück der CSAM UHR 2001 ist ihre hochauflösende optische Maschine, bestehend aus mehreren Komponenten, darunter eine mehrwellige Beleuchtungsquelle, optische Relais und Fokussierungselemente, Bilderfassungssysteme und ein programmierbarer Fehleranalyseprozessor. Das Tool verwendet eine Vielzahl von anspruchsvollen Optiken, ladungsgekoppelten Geräten und Bildverarbeitungsalgorithmen, um subtile Änderungen in den Streu- und Reflexionseigenschaften in verschiedenen Phasen des Bildaufnahmevorgangs zu erkennen. Diese Daten werden dann verarbeitet und angezeigt, um einen detaillierten Überblick über die Mängel zu geben. Die Anlage ist so konzipiert, dass sie benutzerfreundlich ist und keine Schulung der Betreiber erforderlich ist. Seine intuitive Touchscreen-Schnittstelle macht es dem Bediener leicht, Anpassungen der Inspektionsparameter vorzunehmen, die Ausgabeanzeigen anzupassen und das Bilderfassungsmodell zu steuern. Es bietet auch eine Reihe von verschiedenen Abbildungsmodi, einschließlich helles Feld und Dunkelfeld, Spektrum phasenweise Array, Seitenansicht-Bildgebung, und 3D-Bildgebung. SONIX CSAM UHR 2001 ist eines der fortschrittlichsten Systeme zur Inspektion und Analyse von Masken- und Waferdefekten. Seine hochauflösende optische Ausrüstung, kombiniert mit seiner benutzerfreundlichen Steuerung, macht es zu einer idealen Inspektionslösung für Halbleiterhersteller. Seine effizienten und genauen Analysefunktionen reduzieren die Produktionskosten, die Zeit und die Komplexität erheblich und machen es zum perfekten System für die strenge Inspektion von Halbleitermasken und Wafern.