Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / BSL OS 2000 #9162533 zu verkaufen

ID: 9162533
Wafergröße: 2"-4"
Weinlese: 2011
Projection mask aligner, 2"-4" BETA SQUARED Control system Single windows based object-oriented computer BSL Automatic helium regulator Manuals Resolution: Lines spaces: 1.25 µm UV-4 (340-440 nm) Throughput: (120) Wafers per hour, 125/100 mm system Depth of focus: ±6 µm For 1.5 µm Lines and spaces Focus stability: ±2.0 µm Over 6 days Focus range: ±200 µm ±450 µm With extended bellows chuck Partial coherence: Variable, 0.37 - 0.86 Numerical aperture: 0.167 Uniformity of illumination: ±3.0% Particulate generation: (7) Particles per wafer pass (1.0 µm / Larger) Pre-alignment: 600 Style First-level placement accuracy: ±15 µm Wafer / Substrate sizes: 2" Standard: 4" 2011 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/BSL OS 2000 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den industriellen Einsatz. Dieses System führt verschiedene optische Messungen durch, wie Merkmals- und Maskenfehleridentifikation, Qualitätskontrolle und Produktionsüberwachung und vieles mehr. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter ein Mikroskop und eine Digitalkamera, eine Computerschnittstelle, eine spektrale Translationsstufe und eine Lichtquelle. Das Mikroskop der Maschine ist so konzipiert, dass es ein hochauflösendes, kontrastreiches Bild des Wafers oder der Maske liefert. Es ist mit einer Digitalkamera ausgestattet, die verwendet wird, um Bilder des Wafers oder der Maske zu erfassen und auf dem Computer zu speichern. Mit dem Mikroskop können kleine Defekte und Merkmale genau erkannt werden. Die spektrale Translationsstufe sorgt für Bewegung, so dass der gesamte Wafer oder die Maske inspiziert werden kann. Dies ermöglicht eine genauere Inspektion großer Flächen und einen besseren Vergleich verschiedener Bilder. Die Lichtquelle beleuchtet die Wafer und Masken während der Analyse, wodurch kontrastreiche Bilder gewonnen werden können. Die Computerschnittstelle ermöglicht den Import von Daten in SVG OS 2000 vor der Analyse. Dies ermöglicht einen Bildvergleich und eine automatische Fehlererkennung und -klassifizierung. Die Software wird mit verschiedenen Tools geladen, um dabei zu helfen, wie Histogramme zum Vergleich mehrerer Bilder, automatisierte Fehlererkennungsalgorithmen und verschiedene andere Tools zur Analyse. Mit dieser Software sind Genauigkeit und Geschwindigkeit gewährleistet. Schließlich kann das Werkzeug mit einer Vielzahl anderer SVG-Instrumente für zusätzliche Funktionalität verbunden werden. Dazu gehören FIBs (fokussierte Ionenstrahlmikroskope), CVD/PVD-Systeme (chemische Dampf- und physikalische Dampfabscheidungssysteme) und Reinigungswerkzeuge. All diese können verwendet werden, um eine gleichmäßige Oberfläche zu gewährleisten und eventuelle Defekte auf dem Wafer oder der Maske zu erkennen. BSL OS 2000 ist ein umfassendes Asset zur Durchführung von hochauflösenden Masken- und Wafer-Inspektionen. Es ist sehr einfach zu bedienen und kann an viele verschiedene Industrie- und Forschungsanforderungen angepasst werden. Mit seinem leistungsstarken Mikroskop, der Lichtquelle, der spektralen Übersetzungsstufe, der Digitalkamera und der Software ist dieses Modell in der Lage, eine Vielzahl von Defekten und Funktionen schnell und genau zu erkennen.
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