Gebraucht TKK MAC-92MV1 #9227386 zu verkaufen

TKK MAC-92MV1
ID: 9227386
Wafergröße: 8"
Overlay measurement systems, 8".
TKK MAC-92MV1 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterproduktion. Es ist in der Lage, Wafer-Pegelmessungen mit einer maximalen lateralen Auflösung von 0,08 Mikron zu produzieren und unterstützt eine breite Palette von Abbildungsmodi, einschließlich hochauflösender, Dunkelfeld, helles Feld und RGB. Das System ist mit einer automatischen Bildregistrierungsfunktion ausgestattet, die Bilder basierend auf der Platzierung von Maskenfunktionen aufnehmen und ausrichten kann und dem Inspektionsprozess eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit verleiht. Dieses Gerät verfügt auch über eine Schwellwertempfindlichkeitsfunktion, mit der Benutzer die Ebenen der Mustererkennung und -reaktion steuern können. MAC-92MV1 ist mit fortschrittlicher Optik und digitaler Signalverarbeitung ausgestattet. Die Nikkor-Objektive, Digitalkameras und der lineare CCD-Sensor bieten eine Bildauflösung von 4,8um mit unübertroffener Empfindlichkeit, Klarheit und Genauigkeit. Die Maschine verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen, um Funktionen zur Fehlererkennung und -klassifizierung zu identifizieren und zu analysieren. Die benutzerfreundliche grafische Touchscreen-Oberfläche vereinfacht die Bedienung und bietet Anwendern eine breite Palette an Mess- und Anzeigefunktionen. Das Tool kann Inspektionsergebnisse, Funktionsbilder und digitale Bilder von Retikeln speichern, so dass Benutzer schnell überprüfen und auf erkannte Fehler reagieren können. Das Asset eignet sich auch für die Dual-Layer-Inspektion mit der Fähigkeit, Elemente aus der oberen oder unteren Ebene auszuwählen. TKK MAC-92MV1 bietet mehr Möglichkeiten als herkömmliche Waferinspektionssysteme. Es ist für den Umgang mit komplexen Defekten wie Drahtbrücken und Partikelverunreinigungen konzipiert und bietet eine umfassende Plattform zur Unterstützung jeder Phase des Photomasken-Produktionsprozesses. Dieses Modell ermöglicht es den Betreibern, die Qualität eines Maskenproduktionsprozesses sofort zu überwachen und kann verwendet werden, um Arbeitskosten zu reduzieren und Ausfallzeiten zu minimieren.
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