Gebraucht TKK MAC-92MV1 #9375007 zu verkaufen

TKK MAC-92MV1
ID: 9375007
Overlay measurement systems.
TKK MAC-92MV1 ist eines der neuesten auf dem Markt erhältlichen Masken- und Wafer-Inspektionssysteme. Diese Ausrüstung ist hoch fortgeschritten und bietet eine Vielzahl von Inspektionsmöglichkeiten und Funktionen. Das System wird um eine Masken- und Wafer-Inspektionskamera mit einer eigenen optischen Einheit gebaut, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterinspektionen konzipiert ist. Die Kamera verfügt über eine Farbbildsensormatrix von 2048 x 2048 Pixeln, eine minimale Vergrößerung von 63x, ein 6 Segmente drehbares Sichtfeld und eine 2.5MP Bildtreue. Die Maschine ist auch mit einem CCD-Bildgebungswerkzeug ausgestattet, das aus einer dreikanaligen Anzeige, Referenz und Analyse von Wafereigenschaften und Fehlern besteht. Dies ermöglicht es dem Asset, viele Arten von Defekten bis zu 0,5um Tonhöhe zu erkennen und zu analysieren. Es bietet auch ein Auto-Schwellwertmodell, das ein schnelles und automatisches Scannen von Waferfunktionen und Fehlern ohne mühsames Eingreifen des Bedieners ermöglicht. MAC-92MV1 können auch mit mehreren Oberflächen-, Kanten- oder Mustermessalgorithmen konfiguriert werden. Dies ermöglicht schnelle und genaue Messungen verschiedener Oberflächenmerkmale, Partikel, Trübung, Kantenrauheit und Musterbreiten. Darüber hinaus bietet es verschiedene Arten von automatisierten Analyse- und Messfunktionen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über mehrere Bildanalysefunktionen, die es dem Bediener ermöglichen, Wafer und Masken schnell und genau auf Fehler und Unregelmäßigkeiten zu überprüfen. Diese Funktionen wurden entwickelt, um schnelle und zuverlässige Ergebnisse in einer Vielzahl von Inspektionsumgebungen zu liefern. TKK MAC-92MV1 ist ein hochentwickeltes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das für zuverlässige und genaue Ergebnisse in mehreren Industrieanwendungen entwickelt wurde. Es bietet beispiellose Bild- und Fehleranalysefunktionen sowie automatische Schwellenwerte und automatisierte Analyseprozesse. Seine breite Palette von Funktionen macht es eine ideale Wahl für jede Maske oder Wafer Inspektion Bedürfnisse.
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