Gebraucht TKK MAC-92MV1 #9375008 zu verkaufen

TKK MAC-92MV1 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für hochpräzise Messungen. Es ist in der Lage, Wafer mit einer Mindestgröße von 3 Mikron und einer maximalen Größe von 6 Zoll im Durchmesser zu überprüfen. Das System nutzt eine Vielzahl fortschrittlicher Bildgebungstechnologien, darunter ladungsgekoppelte Geräte (CCDs), spezielle optische Komponenten und ein optisches Mikroskop. MAC-92MV1 bietet mehrere Abbildungsmodi, einschließlich Hellfeldmodus, Dunkelfeldmodus und Reflexionsmodus, sodass Benutzer die höchsten Ebenen der Bildauflösung, des Kontrasts und der Schärfentiefe erhalten können. Durch die Kombination modernster Bildverarbeitungsalgorithmen mit fortschrittlicher Optik kann die Einheit hochwertige Bilder verschiedener Halbleiterstrukturen mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit aufnehmen. Die Maschine umfasst ein optisches Mikroskop, eine Photolithographie-Software, ein Computerbedienfeld und eine automatisierte Inspektionsstufe. Das Mikroskop verwendet Bildverstärkungstechniken, um das Bild von sehr kleinen Objekten zu verbessern und eine detailliertere Bildgebung zu ermöglichen. Die Photolithographie-Software ermöglicht es dem Benutzer, benutzerdefinierte Photomasken zu erstellen, die direkt auf den Wafer gedruckt werden können. Das Computerbedienfeld stellt eine vereinfachte Schnittstelle zur Steuerung der Trajektorie des Wafers während der Inspektion bereit. Und die automatisierte Inspektionsstufe ermöglicht präzise und genaue Messungen sowohl großer als auch kleiner Merkmale auf dem Wafer. TKK MAC-92MV1 enthält auch ein integriertes Feature-Erkennungs-Tool und einen Fourier-Transformationsbildprozessor. Erstere können Merkmale auf dem Wafer nach bestimmten Kriterien anhand der vom Benutzer festgelegten Regeln identifizieren. Der Fourier-Transformationsbildprozessor verbessert die Bildauflösung, um genauere Ergebnisse zu liefern. Insgesamt ist MAC-92MV1 eine fortschrittliche und robuste Masken- und Wafer-Inspektion, die außergewöhnliche Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Mit seinen mehreren Abbildungsmodi, leistungsstarken Bildverarbeitungsalgorithmen und der automatisierten Inspektionsstufe kann das Modell Halbleitermerkmale mit höchster Genauigkeit für die fortschrittlichsten Anwendungen genau und zuverlässig messen.