Gebraucht TKK MAC-92MV1 #9399121 zu verkaufen

TKK MAC-92MV1 ist eine professionelle Qualität Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung. Es kombiniert eine neuartige hochauflösende Bildgebungstechnologie mit einer umfassenden funktionsreichen Software-Suite, um detaillierte und umfassende Inspektionsergebnisse zu erzielen. MAC-92MV1 System verfügt über ein leistungsstarkes High-Definition-Bildsubsystem. Dabei werden eine fortschrittliche CCD-Kamera, eine Hochleistungsoptik und eine präzise hochauflösende x-y-Bühneneinheit verwendet. Diese Kombination ermöglicht eine ultrapräzise Bildgebung über eine Vielzahl von Substratmaterialien mit Pixelauflösung und Sichtfenstergrößen von bis zu 1 μ m. Die visuelle Inspektionssoftware von TKK MAC-92MV1 ist in der Lage, Fehler in Masken und Wafern zu erkennen, einschließlich isolierter, isolierter kleiner und großer Fehler sowie diskreter Fehler. Es bietet auch Werkzeuge für die Fehlercharakterisierung und die Fähigkeit, Inspektionsergebnisse zu speichern und zurückzurufen. Die Maschine ermöglicht auch die Anmerkung von Fehlern, so dass Berichte und Fehlerbilder schnell und genau mit anderen Inspektionspersonal geteilt werden können. MAC-92MV1 ist ideal für die Inspektion von Masken und Wafern in F&E- und Produktionsumgebungen und liefert hochpräzise Bilder von spezifischen Prozessausfällen, Fehlern oder möglichen Prozessfragen. Es ist auch ein ausgezeichnetes Diagnosetool in der Datenanalyse, helfen, die Quelle eines Fehlers oder andere Probleme zu identifizieren. Das TKK MAC-92MV1 Tool ist auch für eine einfache Bedienung mit intuitiven und grafischen Benutzeroberflächen konzipiert. Es kann einfach in automatisierte Produktionsumgebungen integriert werden, sowie manuell in F & E-Laboren oder Inspektionsprozessen betrieben werden. Mit seinem modularen Aufbau kann das Asset bei Bedarf leicht mit neuen Funktionen für noch mehr Effizienz und Genauigkeit aufgerüstet werden. MAC-92MV1 Modell ist eine robuste, vielseitige und zuverlässige Lösung für die Masken- und Waferinspektion mit höchster Qualität und Präzisionsbildern, präzisen Fehlermessungen und automatisierten Analysefunktionen. Die funktionsreiche Software-Suite und die präzise, hochauflösende Bildgebung machen sie zu einem Industriestandard für Masken- und Waferinspektionsprozesse.