Gebraucht TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-90 #293587747 zu verkaufen

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ID: 293587747
Overlay measurement system.
TOKYO AIRCRAFT MEASUREMENT MAC-90 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die durchweg echte und messbare Ergebnisse liefert. Es ist ein wesentlicher Bestandteil jeder modernen Halbleitermaterialbearbeitungsanlage. Das System besteht aus vier primären Teilsystemen: dem Frame Subsystem, dem Analyzing Subsystem, dem Sorting Subsystem und dem Wafer Subsystem. Das Frame Subsystem ist für die physikalischen Messungen der Maske & Wafer verantwortlich. Zur präzisen Messung der Abmessungen und Eigenschaften der Maske und des Wafers kommen verschiedene Sensoren zum Einsatz, wie ein Ultraschalldickenmessgerät, ein dielektrisches Patchmessgerät und ein Faseninspektionssensor. Es beinhaltet auch einen integrierten Mikrocomputer und eine Benutzeroberfläche, um den Benutzer durch den Prozess der Eingabe von Messungen und der Durchführung vergleichender Tests zu führen. Das Analyse-Subsystem ist für die objektive Analyse der Maske und des Wafers unerlässlich. Die Maschine besteht aus speziellen Algorithmen, die Fehler wie Risse, Hohlräume, ungleichmäßige Oberflächenmerkmale und Einschlüsse erkennen können. Die von diesem Teilsystem gesammelten Informationen werden dann verwendet, um die Gesamtqualität des Materials zu bestimmen und die bestmöglichen Mittel zur Verarbeitung zu ermitteln. Das Sortieruntersystem ist integral für die Kategorisierung von Masken und Wafern auf der Grundlage ihrer Größe und Qualität. Nach der Analyse des Materials mit dem Analyse-Subsystem kann das Sortierungs-Subsystem das Material in Kategorien wie „niedrige Qualität“, „hohe Qualität“, „sehr niedrige Qualität“ und „sehr hohe Qualität“ unterteilen. Schließlich ist das Wafer Subsystem für die genaue Messung der Form des Wafers verantwortlich. Dieses Teilsystem verwendet leistungsstarke Algorithmen, um Änderungen an Oberflächenmerkmalen zu erkennen und Ebenheit und Oberflächenbereiche zu erkennen. Die hier gesammelten Informationen können verwendet werden, um die Eignung des Wafers für den Einsatz in einer Produktionslinie zu bestimmen. Insgesamt ist MAC-90 ein wesentlicher Bestandteil jeder modernen Halbleitermaterialbearbeitungsanlage. Durch die Kombination von Rahmen, Analyse, Sortierung und Wafer-Subsystemen ist das Tool in der Lage, konsistent echte und messbare Ergebnisse zu liefern. Darüber hinaus ermöglichen die leistungsstarken Algorithmen und der integrierte Mikrocomputer das Erkennen und Kategorisieren von Masken und Wafern mit großer Präzision.
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