Gebraucht TOPCON VI-3200 #9157679 zu verkaufen

TOPCON VI-3200 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Mit automatisierten Funktionen bietet das System erweiterte Fehlererkennungsfunktionen mit schneller und genauer Fehlerisolierung. Das Gerät wurde entwickelt, um die Qualitäts- und Genauigkeitsanforderungen von Halbleiterwafer- und Maskeninspektionen zu erfüllen. Die Maschine verfügt über ein hochauflösendes optisches Mikroskop und eine LIDR-Technologie (Laser Induced Damage Reduction). Das optische Mikroskop bietet Klarheit und eine Genauigkeit von bis zu 1 nm für die genaue Untersuchung des Wafers, während die LIDR-Technologie kritische Fehler identifiziert und beseitigt, die die Funktionalität des Wafers beeinflussen könnten. Die fortschrittliche Bildverarbeitungs- und Analysesoftware ermöglicht die Erkennung einer kleinen Punktgröße und kommt mit omnidirektionaler Oberflächenfehlererkennung, Bildflankenerkennung, Zeilenfehlererkennung, Musteranpassung und erweiterten Mustererkennungsfunktionen. Darüber hinaus bietet das Tool automatisierte Messenabler wie optische Plattenerkennung, Aktualisierungszeitkontrolle, konkave Muster-/konvexe Spitzenanalyse, Filmdickenanalyse, Bildelementgrößen- und Formanalyse und Positionsmustererkennung. VI-3200 unterstützt auch Inspektionsroutinen wie manuelle SEM-Betrachtung, Pushbeam, variable Fokusstrahl und dynamische Analyse. Diese ermöglichen es dem Asset, Funktionen wie Flip-Chip-Bumps und Lötkugeln sowie Metalldünnschicht Probleme wie Haftung oder Ätzraten genau zu messen. Das Modell unterstützt auch Bildnähte und Differentialerkennung zur vollständigen Wafererkennung, um Störungen durch benachbarte Strukturen zu vermeiden. Mit der intuitiven Benutzeroberfläche und der integrierten Steuerungsausrüstung bietet TOPCON VI-3200 eine einfache Bedienung und schnelles Performance-Feedback. Die Kombination aus fortschrittlichen Funktionen, fortschrittlicher Inspektionsfähigkeit und Benutzerfreundlichkeit macht es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Halbleiterwafer- und Maskeninspektionen.