Gebraucht TOPCON WM 10 #9243645 zu verkaufen
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ID: 9243645
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2006
Wafer inspection system, 8"-12"
2006 vintage.
TOPCON WM 10 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine schnelle und genaue Messung und Fehlererkennung ermöglicht. Dieses System verfügt über eine fortschrittliche Silizium-Messtechnik-Einheit, die eine hochgenaue Nanopositionierstufe verwendet, um eine präzise Querung über den gesamten Wafer oder Retikel zu ermöglichen. TOPCON WM-10 verwendet eine leistungsstarke Linsenmaschine, um ein Bild der Maske und des Wafers zu liefern. Dazu gehören sowohl Helligkeits- als auch Dunkelfeldbildmodi, die die Definition von Wafer und Maske maximieren und die Fehlersichtbarkeit erhöhen sollen. Darüber hinaus enthält dieses Tool erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen, die verbesserte visuelle Inspektionsergebnisse und erhöhte Genauigkeit ermöglichen. Das Asset verfügt außerdem über einen einzigartigen optischen Vierkanalscanner, der vier Laser verwendet und es ermöglicht, einen Wafer sowohl in der X- als auch in der Y-Achse zu scannen. Dies ermöglicht eine präzise Inspektion von Wafer und Maske ohne kompromittierende Details oder Genauigkeit. Darüber hinaus ist das Modell mit einer Vielzahl automatisierter Werkzeuge ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, eine Reihe von Messungen in einem Bruchteil der Zeit durchzuführen. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, ist WM 10 auch mit einer Reihe von hochempfindlichen Sonden ausgestattet. Diese Sonden ermöglichen es Benutzern, die Form und Größe der Masken- und Waferstrukturen genau zu messen und gleichzeitig zuverlässige Ergebnisse zu erhalten. WM-10 unterstützt auch mehrere Datenstandards, sodass Benutzer Daten auf andere Systeme übertragen und Ferndiagnosen oder -analysen durchführen können. Dieses Gerät wurde unter Berücksichtigung der Skalierbarkeit entwickelt, sodass es an die spezifischen Anforderungen jeder Inspektionsanwendung angepasst werden kann. Insgesamt bietet TOPCON WM 10 Anwendern ein leistungsstarkes, hochpräzises und effizientes Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Es ist fortschrittliche Silizium-Messtechnik, optische Scan- und Bildverarbeitungsfunktionen machen es ideal für den Einsatz bei der Inspektion von Halbleiter- und Anzeigeanwendungen. Darüber hinaus ist der Multi-Data-Standard-Support, die Skalierbarkeit und das benutzerfreundliche Design eine gute Wahl für jede Inspektionsaufgabe.
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