Gebraucht TOSHIBA / NUFLARE NPI-5000-257 #9245472 zu verkaufen

TOSHIBA / NUFLARE NPI-5000-257
ID: 9245472
Weinlese: 2017
Mask inspection system 2017 vintage.
TOSHIBA/NUFLARE NPI-5000-257 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine innovative und leistungsstarke Maschine zur hochpräzisen Inspektion von Masken- und Wafersubstraten. Es ist entworfen, um eine breite Palette von Defekten zu erkennen, auf einer Vielzahl von Substraten, sowohl in der Form und Schaltungsmuster. TOSHIBA NPI-5000-257 System besteht aus drei Hauptkomponenten: einem erweiterten Bildverarbeitungsmodul, einer High-End-Software-Suite und einem erweiterten optischen Mikroskop. Das bildgebende Modul hat eine Abtastrate von bis zu 8,5 Bildern/Sekunde, die eine schnelle und genaue Abbildung von Substraten ermöglicht. Es enthält auch eine 5-Achsen-motorisierte Stufe, um eine präzise Positionierung des Substrats während der Abtastung zu ermöglichen. Die Software-Suite enthält fortschrittliche Algorithmen, die es dem Gerät ermöglichen, verschiedene Arten von Defekten zu erkennen, wie Risse, Mikroshrinkage, Hohlräume, Partikelverunreinigungen, normale Variationen usw. Diese Algorithmen werden auch verwendet, um die verschiedenen Merkmale jedes Substrats zu analysieren und zu vergleichen, um Fehler zu identifizieren, bevor sie mit dem bloßen Auge sichtbar sind. Um die Interpretation der Ergebnisse zu erleichtern, verfügt die Software-Suite über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache Navigation und Kontrolle der Maschine ermöglicht. Das Mikroskop ist verantwortlich für die Bereitstellung von Bildverstärkung und Kontrast notwendig, damit das Werkzeug Fehler zu erkennen und zu identifizieren. Es wurde entwickelt, um die Bildklarheit durch ausgefeilte Optik und Bildverarbeitungstechniken zu maximieren. Das Mikroskop bietet zudem ein breites Sichtfeld für großformatige Substrate und eine Präzisionsauflösung für kritische Defekte. NUFLARE NPI-5000-257 Mask & Wafer Inspection Asset ist schnell und präzise und bietet eine hervorragende Qualitätssicherung für Masken- und Wafersubstrate. Die fortschrittlichen Software- und Bildverarbeitungsmodule sorgen für eine umfassende und zuverlässige Fehlerinspektion, während das leistungsstarke Mikroskop die Genauigkeit drastisch erhöht. Das Modell ist somit für eine Vielzahl von Inspektionsanwendungen von unschätzbarem Wert und für Qualitätssicherungszwecke sehr empfehlenswert.
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