Gebraucht ULTRAPOINTE 1000 #9026314 zu verkaufen

ULTRAPOINTE 1000 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage zur hochauflösenden Bildgebung und Analyse von Photomasken, Halbleiterphotomasken und Halbleiterwafern. Das System ist in der Lage, Wafer-Inspektion mit bis zu 3,3 µm Auflösung, mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholbarkeit. 1000 nutzt revolutionäre Masken- und Wafer-Inspektionstechnologie, um eine beispiellose Leistung beim Scannen von Photomasken und Wafern mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu bieten. Die Einheit besteht aus einem Wafer-Stepper, einer oder mehreren hochauflösenden Kameras, einer Objektiv/Optik-Schnittstelle und einer computerbasierten Bildanalyse- und Erfassungsmaschine. Der Wafer-Stepper bietet einen Robotermechanismus mit der Fähigkeit, optische Komponenten und Kameras genau auszurichten. Hochauflösende CCD-Kameras, die auf dem Stepper montiert sind, erfassen Bilder von oben und unten des Wafers zur Analyse. Der Wafer-Stepper wird durch ein Paar Anti-Vibrations-Luftisolatoren stabilisiert, um sicherzustellen, dass der Fangvorgang auf der ebenen Oberfläche des Wafers stabil ist. ULTRAPOINTE 1000 verfügt über eine hocheffiziente Optik, die durch präzise gestaltete Komponenten mit einer Auflösung von bis zu 3,3 μ m bereitgestellt wird. Ein optisches Weitwinkelwerkzeug wird verwendet, um das Sichtfeld zu maximieren, wodurch mehrere Masken-/Waferinspektionspunkte gleichzeitig analysiert werden können. Die Schnittstelle Linse/Optik ist direkt am Wafer-Stepper montiert, so dass das optimale Scanfeld präzise eingestellt werden kann. Die computerbasierte Bildanalyse und -erfassung bietet leistungsstarke Software-Tools, mit denen Bilder schnell und präzise analysiert werden können. Fortschrittliche 3D-Algorithmen ermöglichen die Fehlererkennung und -prüfung von Wafern auf häufige Defekte wie Kratzer, Staub, Partikel und andere Verunreinigungen. 1000 Maske und Wafer Inspektionsmodell bietet die Genauigkeit, Wiederholbarkeit und hohe Auflösung durch moderne Halbleiter Herstellungsprozess erforderlich. Seine fortschrittliche Optik und Bildanalyse Ausrüstung bietet beispiellose Leistung in Photomaske und Wafer Inspektion. Durch die Verwendung des Systems sind die Hersteller von Halbleitern in der Lage, Probleme schnell zu erkennen, was zu einer schnelleren Produktion, kostengünstigeren Waren und letztlich zu einer verbesserten Lieferung hochwertiger Halbleiterprodukte auf den Markt führt.