Gebraucht VIKING / DYMATIX VIS 100D #19172 zu verkaufen
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ID: 19172
Wafergröße: 6"
Wafer Inspection Station, 6" capacity with computer control Olympus trinoccular microscope, 50 & 100 x, video camera & digitizer, RS232
Computer is not Windows based.
VIKING/DYMATIX VIS 100D ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung für die Halbleiterindustrie. Das System bietet eine effiziente und umfassende Fehlererkennung für eine Vielzahl von Masken- und Wafersubstraten. Es verfügt über eine breite Palette von Inspektionsparametern und eine hohe thermische Driftkompensationsfähigkeit, um einen hohen Durchsatz zu gewährleisten. VIKING VIS 100D bietet eine vollautomatische Wafer-Pipeline mit fortschrittlicher Optik und Bildverarbeitungstechnologie. Das Gerät verwendet ein fortschrittliches Strahlabtastdesign im linearen Array-Stil, das einen hohen Durchsatz, niedrige Positionsdrift und hochauflösende Bildgebung gewährleistet. Dies gewährleistet einen schnellen und zuverlässigen Inspektionsprozess. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine optimal abgestimmte Beleuchtungsquelle und eine fortschrittliche Abbildungsoptik mit überlegener Kontrolle von Beugung und Streuung unter Beibehaltung geringer Aberrationen. Das Werkzeug unterstützt mehrere Masken- und Wafersubstrate mit Form- und Größenvarianten, die eine hohe Flexibilität und einen hohen Durchsatz gewährleisten. Das Asset bietet verbesserte Fehlererkennungsfunktionen mit seinen leistungsstarken Bildverarbeitungsalgorithmen. Diese Algorithmen umfassen globale und lokale Intensitätsvergleiche, Dilation, geometrische Musteranpassung und vollständige automatisierte Berichterstattung über Inspektionsergebnisse. DYMATIX VIS 100D verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit leicht zugänglichen Parametern, um eine einfache und schnelle Bedienung zu gewährleisten. Hervorgehobene Merkmale sind ein einzigartiger geräuscharmer Detektor, der widerstandsfähig gegen thermische Drift ist und hochempfindliche Messungen bei extremen Winkeln und Einfallswinkeln erreichen kann. Das Modell ist auch in der Lage, einen hohen Dynamikbereich von 0,1 µm bis 50 µm für eine breite Palette von Formen, Größe und Steigung von erkannten Defekten bereitzustellen. Die Pixelzellenstruktur ermöglicht auch eine hochauflösende Visualisierung bis zu 1,5 nm. Darüber hinaus gewährleisten seine erweiterte Bilddatenverwaltung, Bildbereichskorrektur, Artefaktentfernung und Mustererzeugungsfunktionen eine genaue und zuverlässige Fehlererkennung. VIS 100D erfüllt eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen, mit einer Reihe von Funktionen und Komponenten, einschließlich fortschrittlicher Optik- und Beleuchtungssysteme, hochoptimierter Detektions- und Bildgebungssysteme, fortschrittlicher Bildverarbeitungsalgorithmen und hochauflösender Bildgebung. Es ist für den Einsatz in komplexen Halbleiteranwendungen konzipiert und bietet effiziente und zuverlässige Inspektionsmöglichkeiten für Masken- und Wafersubstrate.
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