Gebraucht VISTEC LWM9000 #293589506 zu verkaufen

VISTEC LWM9000 ist eine umfassende Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die automatische Analyse von Photomasken oder großen Wafern sowohl für die Produktion als auch für Laborumgebungen entwickelt wurde. Mit seinem innovativen optischen Kopfdesign ist LWM9000 Masken- und Wafer-Inspektionssystem in der Lage, eine Auflösung von bis zu 0,35 Mikrometern zu erzielen, was eine detaillierte Analyse und Messung kritischer Merkmale ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche Bildgebungstechnologie zur Identifizierung von Defekten, Verzerrungen und anderen Anomalien in Masken- und Waferoberflächen. VISTEC LWM9000 ist mit drei optischen Sensoren ausgestattet - CD-SEM (Rasterelektronenmikroskopie), CD-AFM (Atomkraftmikroskopie) und hierarchische Single-Atom-Messtechnik - die Masken- und Wafermuster gemeinsam mit hoher Genauigkeit beurteilen können. Für die CD-SEM-Bildgebung ist das Gerät in der Lage, Bilder in drei verschiedenen Vergrößerungen von 0,25 bis 0,35 Mikrometer zu erhalten. Das CD-AFM-Feature bietet schnelle und genaue Messungen von dünnen Schichten, Leiterstrukturen und Halbleiterschichten. Die hierarchische Messtechnik ermöglicht es Benutzern, kleinstmögliche Strukturen auf Strukturen mit mehr als neunzig Prozent Genauigkeit zu erkennen. LWM9000 bietet skalierbare, benutzerdefinierte Photomasken-Modalitäten und umfasst eine intuitive, grafische Benutzeroberfläche. Dies ermöglicht eine schnelle und genaue Messung und Integration kundenspezifischer Simulations- und Maskenlayoutdaten. Das Gerät bietet zudem eine automatisierte Bühnensteuerung zur schnellen Fokussierung, die eine schnelle und effiziente Analyse großer oder segmentierter Datensätze ermöglicht. Es verfügt über eine automatische Bewegungsvielfalt, die eine mehrfache Positionierung und kontinuierliche Abtastung der Maske oder des Wafers auch in einer Ebene oder über mehrere Ebenen hinweg ermöglicht. VISTEC LWM9000 verfügt über eine leistungsstarke, aber einfach zu bedienende Software für Anwender und Entwickler. Die Software bietet eine vielseitige und benutzerfreundliche Umgebung für Produktions- und Laborinspektion, so dass Benutzer die Maschine anpassen und automatische Ausrichtungsprüfungen und -akquisitionen durchführen können. Es bietet auch Experten Anmerkung, Patch-Analyse, sowie erweiterte Skript-Befehle und Batch-Verarbeitungsfunktionen, so dass eine effiziente und genaue Bedienung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine integrierte Datenbank, mit der Benutzer Masken- und Waferdaten speichern, abrufen und vergleichen können. Abschließend ist LWM9000 ein fortschrittliches Inspektionswerkzeug, das mit den neuesten bildgebenden und messtechnischen Technologien entwickelt wurde. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für Produktions- und Laboranwendungen und bietet erweiterte bildgebende Funktionen und Automatisierung für eine schnelle und genaue Analyse von Photomasken oder Wafern. Das Gerät ist zudem sehr benutzerfreundlich und ermöglicht die Anpassung und Expertenanalyse großer oder segmentierter Datensätze.