Gebraucht YEST YIH-2400 #9098826 zu verkaufen

YEST YIH-2400
ID: 9098826
Mask repair system.
YEST YIH-2400 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die fortschrittliche Prozesssteuerung (APC) im Halbleiterproduktionsprozess zu erhöhen. Das System verfügt über eine ausgeklügelte optische Inspektionstechnologie, die eine zuverlässige, schnelle und genaue Lösung für die anspruchsvolle Aufgabe der visuellen Inspektion von Masken und Wafern bietet. Die Masken- und Wafer-Inspektionseinheit nutzt eine Vielzahl von Funktionen, um eine effiziente und zuverlässige Lösung zu bieten. Sie liefert dem Anwender ein mehrschichtiges Farbbild des betreffenden Wafers oder der betreffenden Maske und erkennt selbst kleinste Mängel genau. Es funktioniert, indem es zuerst den Wafer und die Maske unter Ultraviolett (UV) fotografiert und dann hochempfindliche Optik und Infrarot (IR) und Mikroskopkameras verwendet, um alle Informationen aus den Bildern zu sammeln. Die Maschine umfasst feldprogrammierbare Gate-Arrays (FPGA), die eine schnellere Verarbeitung von Daten sowie benutzerdefinierte Erkennungsparameter ermöglichen. Es kann verschiedene Defekte wie Kratzer, Gruben, Maskenlöcher, Gate-Fehlregistrierung, Overlay-Fehlregistrierung, Staub, Kontamination, Kratzer in Masken und so weiter erkennen. Das herausragende Merkmal von YIH-2400 ist seine Fähigkeit der Bildanalyse. Mit einer Vielzahl von integrierten Algorithmen ist das Tool in der Lage, Fehler zu identifizieren, eine Fehlerklassifizierung durchzuführen und nach Bereichen zu scannen, die Fehler enthalten können. Es unterstützt außerdem bis zu 256 Laserpegel zur flexiblen Beleuchtungsauswahl und kann Daten auf externen Speicher kopieren und speichern. Insgesamt ist YEST YIH-2400 Maske und Wafer Inspektion Asset sehr gut geeignet für den Einsatz in der Halbleiterindustrie und anderen verwandten Stufen der Produktion. Seine schnellen und genauen Erkennungsfunktionen sind eine große Bereicherung, die die Durchlaufzeiten stark verkürzen kann. Darüber hinaus bietet die Bildanalysefunktionalität des Modells weiterhin großes Potenzial für eine hochgenaue und zuverlässige Fehlererkennung, die von Branchen profitieren kann, die von komplexen Prozessen abhängig sind.
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