Gebraucht ZEISS AIMS 193 #9095595 zu verkaufen

ZEISS AIMS 193 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes Multifunktionssystem, das den Anforderungen der Masken- und Wafer-Inspektion und Charakterisierung gerecht wird. Diese Einheit kombiniert die Funktionalität der optischen und elektrischen Messtechnik, um die Fehlererkennung und die Charakterisierung von Halbleiterbauelementen zu erleichtern. Die Hauptmerkmale der Maschine sind die Hochleistungs-Abbildungsoptik und die bildgebende Elektronik, die zur Inspektion und Charakterisierung von Wafern und Masken bei hohen Vergrößerungen eingesetzt werden. Das Werkzeug ermöglicht die Beobachtung unterschiedlichster kritischer Defekte an Masken und Wafern mit extrem hoher Genauigkeit. Das Asset bietet auch die Möglichkeit, verschiedene Parameter zu messen, einschließlich Überlagerungsausrichtungsgenauigkeit, Prozesskompatibilität und Leistung elektrischer Geräte. Die optischen Abbildungsmöglichkeiten des Modells werden durch seine leistungsstarken Bildverarbeitungsalgorithmen weiter verbessert. Diese Algorithmen ermöglichen es dem Benutzer, subtile Fehler auf Wafern und Masken mit einer hohen Genauigkeit zu identifizieren. Darüber hinaus umfasst die Ausrüstung leistungsstarke Analyse- und Reporting-Funktionen, mit denen Benutzer Inspektionen und Ergebnisse verfolgen, analysieren und berichten können. Das System ist sehr konfigurierbar und benutzerfreundlich. Seine robuste Konstruktion sorgt für Zuverlässigkeit im Betrieb und sein ergonomisches Design macht es komfortabel zu bedienen. AIMS 193 Mask & Wafer Inspection Unit ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug zur Durchführung verschiedener Masken- und Wafer-Inspektions- und Charakterisierungsaufgaben. Es bietet Genauigkeit, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen.