Gebraucht ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419 zu verkaufen

ZEISS/HSEB ZML-200 ist eine branchenführende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die überlegene Leistung im anspruchsvollen Bereich der Halbleiterbauelementherstellung bietet. Mit bis zu 200 Wafern pro Stunde Durchsatz übernimmt das System effizient die Inspektion von Serienläufen. HSEB ZML-200 verwendet eine hochauflösende CCD-Kamera, um jede Maske oder jeden Wafer zu scannen und nach Fehlern zu suchen, die im Herstellungsprozess möglicherweise nicht bemerkt wurden. Mit einem integrierten Fehlererkennungsalgorithmus und einer angepassten Benutzeroberfläche kann das Gerät selbst kleinste Fehler in Masken oder Wafern schnell identifizieren. Die Maschine ist auch so konzipiert, dass sie einfach zu bedienen und schnell zu handeln ist, sodass Benutzer schnelle und genaue Diagnosen der zu inspizierenden Maske oder des Wafers erstellen können. Um die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Werkzeugs weiter zu verbessern, ist das Gerät mit einem fortschrittlichen hochpräzisen Fokussteuerungsmodell ausgestattet. Diese Ausrüstung konzentriert sich schnell auf alle Merkmale der Maske oder des Wafers und ermöglicht schnelle Punkt-zu-Punkt oder Flächeninspektionen. Das System bietet auch die Möglichkeit, mehrere Halbleiterbauelementrezepte zu testen, um maximale Produktausbeuten zu gewährleisten. Durch die Überwachung eines komplexen Netzwerks aus metallischen und isolierenden Schichten ist das Gerät in der Lage, eine Vielzahl von Defekten zu erkennen, einschließlich Linienbreitenvariationen, kurze Hosen, Öffnungen, isolierte Defekte und Überbelastungen. Die Maschine verfügt auch über eine Vielzahl von Selbsttestfunktionen, um sicherzustellen, dass jede Wartung ordnungsgemäß abgeschlossen ist. Schließlich ist ZEISS ZML-200 mit zahlreichen Softwareoptionen ausgestattet, mit denen Benutzer ihren Betrieb anpassen können. Mit der integrierten Fehleranalyse-Software können Benutzer Daten aus den Inspektionen aufzeichnen und speichern. Darüber hinaus ist das Tool mit Mustererkennungs-Optimierungssoftware ausgestattet, so dass das Asset seine Screening-Einstellungen basierend auf der Benutzereingabe ständig lernen und ändern kann. Abschließend ist ZML-200 ein branchenführendes Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das die Produktionserträge maximieren, Kosten senken und den Zeitaufwand für die Masken- oder Waferinspektion reduzieren soll. Mit erstklassigen Funktionen wie hochauflösender CCD-Bildgebung, einer maßgeschneiderten Benutzeroberfläche und modernster Fehleranalyse und Mustererkennungsoptimierungssoftware ist ZEISS/HSEB ZML-200 die perfekte Wahl für jede Herstellungsanlage für Halbleiterbauelemente.