Gebraucht ZEISS / HSEB ZML-200 #9249420 zu verkaufen

ZEISS/HSEB ZML-200 ist eine Masken- und Waferinspektionseinrichtung zur Präzisionsmasken- und Waferinspektion. Es nutzt eine einzigartige Lücke zwischen den optischen Elementen und einem Biegestück, um eine präzise Ausrichtung und eine hervorragende Bildauflösung zu ermöglichen. HSEB ZML-200 bietet Hochgeschwindigkeits- und Hochauflösungs-Bildgebung mit einem branchenführenden Dunkelfeldsensormodul und patentierten Algorithmen, die es ermöglichen, Fehler zu erkennen und zu messen, die zu klein sind, um durch andere Inspektionssysteme gesehen zu werden. Das System besteht aus einem Retikel, einer Dunkelfeldkamera und einer Lichtquelle. Das Retikel besteht aus einem zentralen Ring und zwei verstellbaren Armen, die mit einem verstellbaren Retikelhalter verbunden sind. Dadurch kann der Anwender die Position der Prüfoptik exakt konfigurieren, um qualitativ hochwertige Bilder zu gewährleisten. Die Dunkelfeld-Bildkamera ist mit einem externen CCD-Bildsensor und einem internen Sichtfeld ausgestattet, das eine weitreichende Ansicht der getesteten Maske oder des Wafers ermöglicht. Dadurch kann das Gerät auch kleinste Defekte erkennen. Die Lichtquelle ist für maximale Beleuchtung durch eine einzigartige Kombination aus Fluoreszenz- und UV-Beleuchtung ausgelegt. Dies gewährleistet eine flächendeckend gleichmäßige Ausleuchtung bei gleichmäßiger und optimaler Helligkeit. Darüber hinaus ermöglicht eine spezielle digitale Bildgebungsfunktion der Maschine, selbst die kompliziertesten Details wie Fehler zu erfassen, die unter der Schwelle des menschlichen Auges liegen. ZEISS ZML-200 kann eine Vielzahl von Masken und Wafern inspizieren. Es kann für verschiedene Inspektionsarten wie Fotomasken, Wafer und CD-Messungen verwendet werden. Das Tool wird mit notwendiger Software ausgestattet, um den Benutzer bei der Inspektion und Datenerfassung zu unterstützen. Das Asset ist mit einer intuitiven Software-Oberfläche sehr einfach zu bedienen, und seine intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht eine effiziente Analyse und Interpretation von Daten. ZML-200 ist ein ideales Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion. Das Modell bietet unschlagbare Genauigkeit, hohe Geschwindigkeit und genaue Bildgebung und ausgefeilte Algorithmen für eine effektive Fehlererkennung. Seine intuitive Benutzeroberfläche und fortschrittliche Software-Tools machen es zu einem zuverlässigen und effizienten Werkzeug für die Masken- und Waferinspektion.