Gebraucht ZEISS REG C #9386144 zu verkaufen

ZEISS REG C ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Lage ist, eine Reihe von automatisierten Aufgaben zu erfüllen, einschließlich Oberflächen- und eingebettete Fehlerinspektion, Topographie-Auswertung und Overlay-Messtechnik. Das System kombiniert fortschrittliche Bewegungsleistung mit hoher Auflösung und hoher Empfindlichkeit zur effektiven Inspektion von Maske und Wafern mit hochauflösender Vergrößerung und automatisiertem Betrieb. Die hohe Auflösung und hohe Empfindlichkeit von REG C macht es in der Lage, Fehler zu erkennen, die von anderen Inspektionssystemen verfehlt wurden. Mit seiner automatischen Fokussteuerung ist das Gerät in der Lage, eine hohe Qualität der Fehlerinspektion aufrechtzuerhalten, und die automatisierte Bewegung sorgt dafür, dass die Maschine mit hoher Genauigkeit jeden gewünschten Bereich auf der Maske und dem Wafer erreichen kann. ZEISS REG C ist mit einem Software-Tool ausgestattet, das den Masken- und Wafer-Inspektionsprozess automatisiert. Die Software bietet Werkzeuge für Maskenausrichtung, Overlay-Messungen und Fehlersuche. Durch die Automatisierung des Inspektionsprozesses kann der Bediener die Software nutzen, um die Masken- und Waferdaten schnell auszuwerten und so höchste Qualität der Inspektion zu gewährleisten. Darüber hinaus ist REG C in der Lage, mit Hilfe des Feldemissionsrasterelektronenmikroskops (FE-SEM) und des Scanning Thermal Microscope (STM) eine breite Palette von Oberflächenanalysen durchzuführen. Das FE-SEM ist in der Lage, gleichzeitig einen Bereich mit hoher Auflösung zu scannen, während das STM eine detaillierte Analyse der Oberfläche einer Probe ermöglichen kann. Diese Kombination aus hochauflösender und fortschrittlicher Oberflächenanalyse ermöglicht eine eingehende Inspektion jeder Probe. ZEISS REG C ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur automatisierten Masken- und Waferinspektion. Seine starken automatisierten Funktionen sowie seine hohe Auflösung und Empfindlichkeit machen es zur perfekten Wahl für jede Art von Inspektion. Durch die Kombination von fortschrittlicher Bewegungsleistung, hoher Auflösung und hoher Empfindlichkeit bietet REG C eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Masken- und Waferinspektion.