Gebraucht ZYGO NewView 5000 #9008672 zu verkaufen
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Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9008672
Interference Microscope
Dell PC installed by OEM
Win 7.0 and MetroPro 9.0.10
Includes:
(6) indexed positions of image zoom
Includes (3) objectives
Manual X/Y and tip/tilt stage with motorized Z-axis with turret
Includes vibration isolation table with workstation desk
Profile heights ranging rom >1 nm up to 5000 um at speeds up to 10 um / s with 0.1 nm height resolution, independent of magnifications and feature height
Variable image zoom
5-position manual or motorized turrets capability
Profile areas up to 50 x 50 mm and larger
Image stitching capabilities
Closed-loop prezo-based scanner
Highly-stable metrology
Ultra-rigid support structure
Granite base foundation
Reduced footprint dynamically stabilized vibration isolation table
Fully integrated ergonomic workstation
Gage capability
NIST-traceable standards
Interfaced to Pentium based PC
Password protection on applications
Various standard and optional automation modules
Programmable stages
Standard and custom sample fixturing
Integrated autofocus.
ZYGO NewView 5000 ist eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage für eine Reihe von Inspektionsaufgaben. Es ermöglicht eine Frontanalyse für die Retikel- und Maskenherstellung und kombiniert verschiedene bildgebende Technologien wie optische, SEM (Scanning Electron Microscope) und Raman-Spektroskopie, um die Mehrschichtinspektion zu erleichtern. Das System nutzt innovative optische Bildgebungstechnologie, die überlegene Auflösung und Kontrastbildgebung sowohl für undurchsichtige Proben als auch für 3D-Strukturen bietet. Dies ermöglicht die Detektion von Mikropartikeln, Defekten und Verzerrungen und ermöglicht eine hochpräzise Abbildung von Materialien bis in den Nanometerbereich. ZYGO 5000 bietet durch sein hochmodernes Rasterelektronenmikroskop (SEM) verbesserte Inspektionsmöglichkeiten. Dazu gehören eine verbesserte bildgebende Auflösung von bis zu 200 Nanometern im Echtzeitbetrieb und eine überlegene bildgebende Auflösung von 5 Nanometern. Damit eignet er sich ideal zur Inspektion hochauflösender Muster und Strukturen sowie zur Fehlersuche und Komponentenbewertung. Die Einheit kann auch Raman-Spektroskopie (RS) durchführen, um die Materialzusammensetzung zu analysieren. Diese zerstörungsfreie Technik wird für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Identifizierung von Fremdstoffen und Verunreinigungen, die Bestimmung der Gleichmäßigkeit von Abscheidungsprozessen und die Überprüfung von Schichtänderungen eingesetzt. NewView 5000 bietet zudem eine umfassende Software-Suite, die eine automatisierte Mustererkennung, komplexe Bildverarbeitung und Partikelanalyse ermöglicht. Diese intuitive Software ist in der Lage, physikalische Defekte an Wafern, Retikeln und Masken sowie Mustervariationen sowohl für undurchsichtige Materialien als auch für 3D-Strukturen zu erkennen und zu messen. Die Maschine hat eine überlegene mechanische Konstruktion, die einfache Bedienung, Be- und Entladen von Wafern und Probenwechsel ermöglicht. Es bietet auch Flexibilität bei der Handhabung von Substraten wie dicken Wafern, Retikeln, unterschiedlicher Formen und Größen. 5000 bietet die leistungsstärksten Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten, die heute auf dem Markt verfügbar sind. Es ist ein wesentliches Werkzeug für die Sicherstellung der höchsten Qualität Ergebnisse in der Herstellung von Wafern, um genaue Geräteleistung zu gewährleisten.
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