Gebraucht ZYGO NewView 6300 #9188823 zu verkaufen

ZYGO NewView 6300 Wafer and Mask Inspection Equipment ist ein automatisiertes, berührungsloses optisches Messsystem zur schnellen und genauen Messung von Gerätefunktionen auf Wafern und Masken. Es kombiniert hochauflösende Bildgebung mit abstimmbarer Laserinterferometriemikroskopie (STILI), wodurch es für eine Vielzahl von Halbleiter-, optoelektronischen und optomechanischen Fertigungsmessungen geeignet ist. ZYGO NEW VIEW 6300 verfügt über eine automatisierte Bühne, die es ermöglicht, große Bereiche auf Wafern oder Masken präzise zu scannen und zu messen. Die erweiterte Optik bietet eine Auflösung von bis zu 0,1 Mikrometern und ermöglicht die Messung extrem kleiner Merkmale und Strukturen. Mit einem Arbeitsabstand von 8 mm und einem Sichtfeld von bis zu 25 mm kann NewView 6300 Gerätefunktionen auf einem Wafer oder einer Maske in weniger als einer Minute genau messen. NEW VIEW 6300 ist mit STILI-Technologie ausgestattet, die die Messung von Merkmalen mit Präzision und Genauigkeit ermöglicht. STILI verwendet Laserinterferometrie, um die kleinsten topographischen Merkmale zu messen, so dass der Benutzer Profil, Steigung, Höhe und andere Oberflächenmerkmale mit höchster Genauigkeit messen kann. Es hat auch die Fähigkeit, verschiedene Schichten der Dünnschichtabscheidung, wie Dünnschichtstapel oder optische Beschichtungen zu messen. ZYGO NewView 6300 bietet auch eine Reihe von Prüfmodi für verschiedene Anwendungen. Es kann verwendet werden, um Vorrichtungsmerkmale mit hoher Genauigkeit in Prozessen wie Photolackbildgebung, Planarisierung, Lithographie oder Abscheidung zu messen. Es kann auch zum Elektrodenabheben, zur Maskendefektanalyse und zur Waferdünnung verwendet werden. Das Gerät ist einfach zu bedienen und einzurichten und erfordert ein minimales Bedienertraining. Es ist mit einer grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglicht, die Maschine schnell und fehlerfrei einzurichten und zu betreiben. Darüber hinaus ist ZYGO NEW VIEW 6300 äußerst zuverlässig und präzise. Es ist in der Lage, die Wiederholbarkeit von 5 nm oder besser für Merkmalsmessungen zu erreichen und eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungsbedürfnissen. Es hat auch die Fähigkeit, mehrere Arten von Oberflächenmerkmalen sowie eine Vielzahl von verschiedenen Merkmalen zu messen, einschließlich Oxidation, Abscheidung und Widerstandseigenschaften. NewView 6300 ist ein effizientes Werkzeug für die genaue Wafer- und Maskeninspektion und bietet eine beispiellose Geschwindigkeit und Genauigkeit. Mit seiner einfachen Benutzeroberfläche und der hochauflösenden Optik ist es eine gute Wahl für jeden Herstellungsprozess, der Präzisionsmaske und Wafermessung erfordert.