Gebraucht ZYGO Verifire MST #293633210 zu verkaufen

ZYGO Verifire MST ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die hauptsächlich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System nutzt präzise optische Bildgebungs- und Messtechnologien, um beispiellose visuelle Inspektionsmöglichkeiten zu bieten. Verifire MST integriert die Rasterelektronenmikroskopie (SEM) mit fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen, um Fehler an Masken, Wafern und anderen Oberflächen schnell und effektiv genau zu identifizieren. Das Gerät verfügt über eine präzise optische Bildgebungsmaschine, die in der Lage ist, Muster, Texturen und Merkmale mit höchster Genauigkeit auf die Probe zu fokussieren. Diese bildgebende Technologie nutzt mehrere Wellenlängen, um ein zusammengesetztes Bild der Probe zur erweiterten Fehlererkennung bereitzustellen. ZYGO Verifire MST bietet Kontrolle und Analyse großer Datenmengen, um Fehler an einer Vielzahl von Masken- und Wafertypen genau zu erkennen. Zu den Merkmalen gehören eine 4-Achsen-Stufe zur Positionierung und Bewegung der Proben, ein automatisierter Waferkassettenlader und Entlader sowie ein automatisierter Kalibrator zur hochgenauen Messung jeder Probe. Die Software des Werkzeugs enthält verschiedene Inspektionswerkzeuge, einschließlich eines Mustererkennungsmoduls, um Fehler innerhalb der Probe automatisch zu erkennen. Die Software bietet auch eine erweiterte statistische Analyse der Daten und die volle Kontrolle über die Benutzeroberfläche. Die Software ist in der Lage, detaillierte Fehlerzusammenfassungsberichte und andere Fehleranalyseberichte zu erstellen. Darüber hinaus bietet Verifire MST eine Vielzahl von Zusatzmerkmalen für die Bearbeitung und Auswertung von Proben, wie Rückstandsbildgebung zur Messtechnik und Sauberkeitsanalyse, ein Fehlerklassifizierungswerkzeug zur Ermittlung der Fehlerwahrscheinlichkeit und ein Maskenfehlererkennungsmodul zur Identifizierung schwacher Verknüpfungen. ZYGO Verifire MST ist in der Lage, große Datenmengen schnell zu scannen und Defekte bei geringem menschlichen Eingriff genau zu bestimmen. Die überlegene optische Bildgebungstechnologie ermöglicht eine schnelle und genaue Analyse der Masken- und Waferproben, während die Fehleranalyse und die statistischen Analysetools detaillierte Berichte liefern, um effiziente Fertigungsabläufe zu ermöglichen.