Gebraucht CUSTOM / NEXGEN 440 S1 MBE #9233063 zu verkaufen

ID: 9233063
MBE Growth chamber For eBeam deposition of metals With loadlock VEECO GEN II Manipulator Includes: (2) THERMIONICS LAB INC / TLI HM2 Series eGun TM (2) 10CC Crucibles with 8" OD CF mounted (2) Pneumatic shutters (2) Water interlock switches Switching e-Gun power supply: 15 kW Gun controllers filament transformer & cables (2) X-Y Beam sweep controllers Flux monitor sigma EIES guardian RHEED kSA 400 With 30eV power supply STAIB Gun computer controller With remote control box VEECO CAR 3" Dual zone with heater Power supplies Controller Substrate rotation & angle to evaporation / Loading PFEIFFER MVP 070-3 Diaphragm vacuum pump PFEIFFER Mechanical-turbo pump with DCU (2) MKS 999 Quattro EXTORR XT100 Residual gas analyzer GRANVILLE PHILLIPS 350 Ionization gauge & controller NESLAB HX300 E-Guns chiller OXFORD INSTRUMENTS Cryo-Plex 8, Diode, UHV with burst disc PFEIFFER MVP 070-3 Diaphram vacuum pump Holding system at 10-kelvin Chamber & E-Gun cooling Manuals Does not include: MKS Microvision 1-6AMU RGA Atomic hydrogen source with automated valve positioner Chiller for sample & H+ source cooling Chiller for main chamber cooling LESKER LVM940 Leak valve PC System (2) XHR 60-18 XANTREX power supplies (3) EUROTHERM controllers Optitherm III Optical fiber pyrometer Temperature range: 600°C to 1500°C GAMMA Vacuum ion pump 150T Titan DI (6) CFF VAT Valve.
CUSTOM/NEXGEN 440 S1 MBE ist ein hochmodernes Molekularstrahl-Epitaxiesystem, das bei der Untersuchung des Wachstums und der Charakterisierung ultradünner (Dicke weniger als 1 μ m) Halbleiterfilme eingesetzt wird. Es ist eine vielseitige, Multi-Barrier-Epitaxie-Einheit mit einer erweiterbaren Konfiguration und umfasst Komponenten wie eine Last-Lock-Kammer, Sputterkit, E-Beam Gun, Heizelemente, Dual-Source-Abscheidung mit Source-Mixed-Modus und einen integrierten UHV-Maschinensteuerung. Die Lastschloßkammer dient zur Minimierung der Gaseinleitung und Verunreinigung und zur Aufrechterhaltung eines stabilen UHV in der Hauptvakuumkammer. Dies ermöglicht auch die Abscheidung mehrerer Testproben in derselben Kampagne. Das Sputterkit ermöglicht die Untersuchung von Metallen wie Titan, Silber, Molybdän und Palladium mit einem Multi-Pocket-Target. Die E-Strahl-Pistole wird auch verwendet, um Substratmaterialien bei Bedarf zu verdampfen. Darüber hinaus werden die Heizelemente eingesetzt, um kompliziertere Strukturen wie Bilayer zu entwickeln, während die Dual-Source-Abscheidung eine präzise Zusammensetzung und Schichtprofil von abgeschiedenem Material in einem Source-Mixed-Modus für Mehrlegierungsstrukturen gewährleistet. Abgesehen davon nutzt das CUSTOM 440 S1 MBE Tool auch einen leistungsstarken UHV Asset Controller. Dies ermöglicht einen automatisierten Betrieb und eine präzise Steuerung aller Vakuum- und Abscheideparameter, Datenerfassung, zeitabhängige Betriebssteuerung und vieles mehr. Dies bietet auch Echtzeit-Parameterüberwachung, sowohl für den Modellstatus als auch für die Materialabscheidung, um genaue Experimente und genaue Ergebnisse zu gewährleisten. Außerdem ermöglicht die Quellmischweisendoppelquelle-Absetzung bessere Kontrolle über Schichtenprofile, Temperatur, Zusammensetzung, und erleichtert weitere Manipulation des abgelegten Materials, solcher als mit dem Anisotropic-Ätzen. Darüber hinaus bietet es auch eine bessere Präzision beim Wachstum komplexer Strukturen wie Quantenpunkte. Kurz gesagt, NEXGEN 440 S1 MBE ist ein fortschrittliches Werkzeug zur Untersuchung des Materialwachstums und der Charakterisierung ultradünner Filme. Es verwendet ein vielseitiges Multibarrieresystem, mit einem integrierten UHV-Controller, verschiedenen Heizkomponenten, Sputterkit und einer leistungsstarken E-Beam-Pistole. Mit seinem ausgeklügelten Design bietet es eine präzise Kontrolle über Abscheidungsparameter und Schichten und bietet fortschrittliche Werkzeuge zum Ätzen und Manipulieren von abgeschiedenen Materialien. Dies macht es ideal für die Forschung und Entwicklung von Materialien für Nanodesigns und elektronische Anwendungen.
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