Gebraucht OXFORD / VG SEMICON V100 #9036615 zu verkaufen

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ID: 9036615
Wafergröße: 5x3"
Weinlese: 2010
3-Stage Molecular Beam Epitaxy (MBE) System Currently configured for 5x3" wafers Other capabilities : 1x6", 3x4", 5x3" or 12x2" substrate wafers at a time CBr4 Source Deposition chamber Preparation chamber with (2) fast entry locks Outgas stage System bench Control rack Computers Custom control software or OEM Control Rack Modules UHV Pressure Controllers Shutter Controls Valve Controls Transfer Controls, Pumpdown / Vent Controls RHEED Gun Supply RGA and temperature monitoring 4- Loop Thyristors UPS Interface Multi-Gauge, Autoranging Picoammeters (1) SRS RGA200 Quadruple Mass Spectrometer (1) Applied Epi RF Plasma Source Tuning Unit (3) Powerware Prestige EXT UPS Supplies (1) Neslab CFT-150 Recirculator (1) CTI 9600 Compressor (3) Busch Diaphragm Pumps (4) Heavy-Duty Transformers Liquid Nitrogen System Components Continuous power supply battery back up LN2 phase separator Controllers Pumps Manuals 415V, 50/60Hz.
OXFORD/VG SEMICON V100 ist eine anspruchsvolle Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Ausrüstung, die für fortschrittliche Dünnschicht-Abscheidungsprozesse entwickelt wurde. Es nutzt die Technologie von Hochvakuum, Niederdruck und Ultrahochvakuum kombiniert mit einer sehr zuverlässigen Vielzahl von anwendungsspezifischen Prozesstechnologien. OXFORD V100 bietet eine Reihe von Prozessfähigkeiten, wie z.B. erweiterte Flächenmusterverfahren, Leitschichtwachstumsprozesse und hochwertige Oberflächenveredelungen. Diese Verfahren basieren auf Techniken der Molekularstrahlepitaxie, bei denen ein dünner Film aus einem gewünschten Material auf einem Substrat in einer Ultrahochvakuumkammer abgeschieden wird. Das auf die entsprechende Temperatur erhitzte Substrat wird den einfallenden Strahlen von Vorläufermolekülen ausgesetzt, die unter Verwendung von Elektronenstrahlen hoher Intensität und anderen Quellen verdampfen. VG SEMICON V100 bietet zwei isolierte Ultrahochvakuumkammern für zuverlässige und wiederholbare Prozessgleichförmigkeit, die beide mit verschiedenen Sätzen von Prozessmodulen ausgestattet sind, um eine optimale Steuerung der gewünschten Parameter wie Abscheiderate, Hintergrunddruck, Substrattemperatur und mehr zu gewährleisten. Es verfügt auch über elektrische Module, ein Heizmodul und ein leistungsstarkes Thermoelementmodul, um die Temperaturgleichförmigkeit innerhalb der Kammer genau zu überwachen und zu regeln. V100 verfügt über eine Vielzahl erweiterter Prozesssteuerungsfunktionen. Dazu gehört ein Mehrfachgaseinspritzsystem, das die Abgabe mehrerer Gase für ein breites Spektrum von Gasen stark kontrolliert, eine automatische Strömungssteuerung von Gasen, die Steuerung der Intensität und Größe des Elektronenstrahls sowie eine Reihe von Prozessparametern zur genauen Überwachung der Prozeßstart-, Stabilisierungs- und Abschlußprozesse ermöglicht. OXFORD/VG SEMICON V100 ist die perfekte Wahl für Anwender, die eine hochpräzise, fortschrittliche und zuverlässige MBE-Einheit für die Dünnschichtabscheidung benötigen. Die Eigenschaften dieser Maschine ermöglichen eine erweiterte Palette von Anwendungsmöglichkeiten wie Halbleiterproduktion, Arzneimittel- und Biotechnologie-Produktion, fortschrittliche Elektronik, Optoelektronik, Flachbildschirm, unter anderem. Die verbesserte Prozesskontrolle von OXFORD V100 sorgt für eine zuverlässige und wiederholbare Abscheidung von absolut hochwertigen Folien.
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