Gebraucht RIBER 19C #9100829 zu verkaufen

Hersteller
RIBER
Modell
19C
ID: 9100829
Wafergröße: 4"
Molecular Beam System (MBE), 4" (3) Effusion cell ports / E-Beam guns AIRCO TEMESCAL CV-14 Electron beam power supply with control Vacuum chamber with cryo pump, ports and manipulators INFICON IC 6000 Deposition controller SENTINEL III Controller SENTINEL 200 (4) LAMBDA LK351 FMV DC Power supplies.
Molecular Beam Epitaxy (MBE) ist eine ausgeklügelte Verfahrenstechnologie zur Abscheidung von Dünnschicht-Halbleiterschichten auf Substraten für die Optoelektronik und andere mikroelektronische Bauelemente. RIBER 19C ist eine MBE-Ausrüstung, die auf der Knudsen-Effusionszellen-Technologie von RIBER S.A., einem französischen Hersteller von MBE-Systemen, basiert. 19C-System umfasst drei Basiskomponenten: eine UHV-Kammer, ein benutzerfreundliches Steuerungssoftware-Paket und eine Reihe von Quellmodulen. Die UHV-Kammer ist für einen zuverlässigen und effizienten Betrieb ausgelegt, mit einem Quarzsichtfenster, mechanischen Messgeräten und einer fortschrittlichen Thermoelementeinheit, die die Temperatur jeder Quelle bis innerhalb von 0,1 ~ K messen kann. Die Integration mit Drittöfen ermöglicht es, eine breite Palette von Halbleiterschichten auf verschiedenen Substraten herzustellen. Die Benutzeroberfläche des RIBER 19C-Softwarepakets bietet eine einfache und zuverlässige Möglichkeit, die Maschine zu steuern. Mit einem Touchscreen und einer grafischen Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Benutzer, Flussraten, Drehtischwinkel, Temperatur, Druck, Teegewichte und Betriebsparameter anzupassen. Darüber hinaus umfasst das Softwarepaket eine anpassbare Datenprotokollierung und Automatisierungsfunktion, die einen Fern- oder autonomen Betrieb ermöglicht. 19C verfügt auch über eine erweiterte Palette von Quellmodulen. Sein Zwei-Ventil-Viergasquellenmodul ermöglicht exakt geregelte Gasströme in mehreren Ventil/Gas-Kombinationen. Sie ist in der Lage, bis zu sechs Gase mit 16 Einzelventilen zu steuern, die eine Dosissteuerung präziser Moleküle ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht es sein patentiertes rotierendes Verschlussquellenmodul dem Anwender, kontinuierlich Folien abzulegen, ohne die Anzahl der Ventile im Mix zu verändern, um die Folieneigenschaften genau zu steuern. Darüber hinaus ermöglicht das Drei-Filament-Source-Modul die genaue Regelung und Wartung eines weiten Temperaturbereichs. Dieses Werkzeug wird häufig verwendet, um eine breite Palette von Materialien abzuscheiden, die von elementaren Verbindungen (wie Arsenverbindungen) bis zu III-V-Verbindungen reichen. Schließlich gibt sein widerstandsbeheiztes Quellmodul die Fähigkeit, flüchtige Materialien wie III-V und II-VI Verbindungen ohne Zersetzung genau zu übertragen. Insgesamt ist RIBER 19C ein fortschrittliches MBE-Asset, das sich gut für die Herstellung hochleistungsfähiger und zuverlässiger Dünnschicht-Halbleiterschichten eignet. Es bietet ein zuverlässiges und effizientes UHV-Modell, ein benutzerfreundliches Softwarepaket und eine breite Palette von Quellmodulen zur genauen und präzisen Kontrolle der Schichteigenschaften. Diese Anlage wurde erfolgreich bei der Herstellung verschiedener optoelektronischer und mikroelektronischer Geräte eingesetzt.
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